[实用新型]气体置换装置及反应釜系统有效

专利信息
申请号: 201621194234.5 申请日: 2016-10-26
公开(公告)号: CN206199236U 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 柯盛波;徐世翠;张汉平 申请(专利权)人: 合肥三利谱光电科技有限公司;深圳市三利谱光电科技股份有限公司
主分类号: B01J19/14 分类号: B01J19/14
代理公司: 深圳中一专利商标事务所44237 代理人: 杨雪琴
地址: 230000 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 气体 置换 装置 反应 系统
【权利要求书】:

1.气体置换装置,其特征在于:包括进气导管和用于连接反应釜的法兰连接件,所述法兰连接件上设有安装孔,所述安装孔上设有弹性密封件,所述进气导管穿过所述安装孔和所述弹性密封件而与所述法兰连接件密封连接;所述法兰连接件上设有用于调节所述弹性密封件的形变量以使所述弹性密封件锁定或解锁所述进气导管的调节装置。

2.根据权利要求1所述的气体置换装置,其特征在于:所述法兰连接件包括相互连接的上法兰和下法兰,所述上法兰上设有上通孔,所述下法兰上设有下通孔,所述下法兰或所述上法兰内设有凹槽,所述弹性密封件为内嵌于所述凹槽内的密封圈,所述进气导管依次穿过所述上通孔、所述密封圈和所述下通孔。

3.根据权利要求2所述的气体置换装置,其特征在于:所述调节装置为设于所述上法兰上的调节螺钉,所述调节螺钉与所述密封圈抵顶;

或者所述调节装置为设于所述上法兰和所述下法兰之间的紧固螺钉,所述密封圈的两端分别与所述上法兰和所述下法兰紧配合,且所述密封圈的高度大于所述上法兰与该密封圈抵接的部位和所述下法兰与该密封圈抵接的部位之间的间距。

4.根据权利要求3所述的气体置换装置,其特征在于:所述进气导管和所述凹槽均为圆柱形。

5.根据权利要求3所述的气体置换装置,其特征在于:所述密封圈的一端位于所述凹槽内,另一端突出于所述凹槽所在的所述下法兰或所述上法兰而与相对于所述凹槽的所述上法兰或所述下法兰抵顶;

或者所述密封圈的两端均位于所述凹槽内,相对于所述凹槽的所述下法兰或所述上法兰上的一端上设有凸台,所述凸台与所述密封圈抵顶。

6.根据权利要求4所述的气体置换装置,其特征在于:所述密封圈的外径与所述凹槽的直径相同,所述密封圈的内径与所述进气导管的外径相同,所述密封圈的高度比所述凹槽的高度高0.5-1mm。

7.根据权利要求4所述的气体置换装置,其特征在于:所述上通孔和所述下通孔的直径相同,所述进气导管的直径略小于所述上通孔的直径而使所述进气导管能够相对于所述上通孔和所述下通孔滑动。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的气体置换装置,其特征在于:所述进气导管下端可拆卸连接有分流导管,所述分流导管上间隔设有多个出气口。

9.根据权利要求8所述的气体置换装置,其特征在于:所述分流导管包括弧形导管,所述弧形导管上间隔设有多个所述出气口。

10.反应釜系统,包括反应釜,所述反应釜的釜盖上设有法兰接口,其特征在于:还包括权利要求1-9中任一项所述的气体置换装置,所述法兰连接件与所述法兰接口连接。

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