[实用新型]一种锆靶材组件及磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201621196847.2 | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN206273835U | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | 徐兴;李泽宇;周媛;魏志英 | 申请（专利权）人： | 广汉川冶新材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人： | 李佳 |
| 地址： | 618000 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 锆靶材 组件 磁控溅射 装置 | ||
1.一种锆靶材组件，其特征在于，包括锆靶材和背板，所述锆靶材包括一体成型的基底和凸台，所述基底具有上表面和下表面，所述背板设有凹槽，所述凹槽由底面和周面围合而成，所述基底的所述下表面焊接于所述凹槽的所述底面，所述基底的所述上表面设有锯齿状凸起，所述上表面与所述背板的靠近所述凸台的一面位于同一平面。
2.根据权利要求1所述的锆靶材组件，其特征在于，所述凹槽的所述周面与所述基底的侧壁间隙配合，所述凹槽的所述周面与所述基底的侧壁之间的间隙小于0.1mm。
3.根据权利要求2所述的锆靶材组件，其特征在于，所述凹槽的所述周面与所述基底之间为真空电子束封焊连接。
4.根据权利要求1所述的锆靶材组件，其特征在于，所述凸起为锥形，所述凸起的高度小于所述凸台的高度。
5.根据权利要求4所述的锆靶材组件，其特征在于，相邻两个所述凸起的侧壁之间的夹角为45°-75°。
6.根据权利要求1所述的锆靶材组件，其特征在于，所述基底和所述凸台均为圆柱形，所述凹槽与所述基底相匹配。
7.根据权利要求6所述的锆靶材组件，其特征在于，所述基底与所述凸台的半径之比为2：0.7-1.2。
8.根据权利要求1所述的锆靶材组件，其特征在于，所述背板远离所述凸台的一侧开设有多个散热通道，多个所述散热通道间隔均匀分布。
9.根据权利要求8所述的锆靶材组件，其特征在于，所述散热通道为盲孔，所述盲孔的开口朝向远离所述凸台的一侧。
10.一种磁控溅射装置，其特征在于，所述磁控溅射装置包括权利要求1-9中任一项所述的锆靶材组件。
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