[实用新型]箔绕线圈浇注模有效
申请号: | 201621203662.X | 申请日: | 2016-11-08 |
公开(公告)号: | CN206134485U | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | 包正科;周奇 | 申请(专利权)人: | 江苏新特变科技股份有限公司 |
主分类号: | H01F41/04 | 分类号: | H01F41/04;B29C39/26 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所(普通合伙)32211 | 代理人: | 陆华君 |
地址: | 215699 江苏省苏州市张家港市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 线圈 浇注 | ||
技术领域
本申请涉及一种浇注模,特别是涉及一种箔绕线圈浇注模。
背景技术
浇注式线圈一般分为线绕和箔绕,线绕线圈的电流相对箔绕线圈的较小,可以采用多种出线方式,模具制作也较容易。而箔绕线圈具有电压小电流大的特点,通常要求用导电排引出,而导电排的固定就是模具设计的重点。
通常模具如图1-2所示,包括支架101、上端板102、内模103和下端板104组成。铜排需要从轴向引出,就需要从图2的上端板102开缺口,由于上端板102是一个圆环,开缺口之后会失去整体的刚性,从而容易造成在脱模工序中将上端板102损坏的同时,甚至对操作人员的安全构成危险。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种箔绕线圈浇注模,以克服现有技术中的不足。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
本申请实施例公开了一种箔绕线圈浇注模,包括内模,所述内模上下两端分别连接有上端板与下端板,所述上端板包括与所述内模整个顶面贴合的接触面。
优选的,在上述的箔绕线圈浇注模中,所述接触面凹设有一凹槽,所述内模上端配合嵌入所述凹槽。
优选的,在上述的箔绕线圈浇注模中,所述内模为圆柱形内模,所述凹槽为配合所述圆柱形内模上表面嵌入的圆柱形凹槽。
优选的,在上述的箔绕线圈浇注模中,所述上端板边缘开设有一供铜排引出的缺口。
优选的,在上述的箔绕线圈浇注模中,所述上端板与内模通过螺栓固定。
优选的,在上述的箔绕线圈浇注模中,所述下端板与内模通过螺栓固定。
与现有技术相比,本实用新型的优势在于:将上端板做成一个整体和内模固定在一起,优化了普通模具的上端板制作工艺,由于上端板还是一个整体,刚性没有变化,有利于引出线的限位和脱模工艺的实施。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1所示为现有技术中箔绕线圈浇注模的结构示意图;
图2所示为图1中上端板102的俯视图;
图3所示为本实用新型具体实施例中箔绕线圈浇注模的结构示意图;
图4所示为图3中上端板201的仰视图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行详细的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
结合图3-4所示,箔绕线圈浇注模,包括内模202,内模202上下两端分别连接有上端板201与下端板203,上端板201包括与内模202整个顶面贴合的接触面。
在一实施例中,上端板的底面为一水平面,其直接支撑于内模顶面,将上端板做成一个整体和内模固定在一起,优化了普通模具的上端板制作工艺,由于上端板还是一个整体,刚性没有变化,有利于引出线的限位和脱模工艺的实施。
进一步地,接触面凹设有一凹槽204,内模202上端配合嵌入凹槽204。内模202为圆柱形内模202,凹槽204为配合圆柱形内模202上表面嵌入的圆柱形凹槽204。上端板201边缘开设有一供铜排引出的缺口205。
在另一实施例中,采用凹槽结构可以更好的实现上端板与内模的稳固,而且开设缺口后不影响刚性。
进一步地,上端板201与内模202通过螺栓固定。下端板203与内模202通过螺栓固定。
优选采用螺栓固定,但是采用其他方式也可以实现,都应当属于本申请的范围。
需要说明的是,在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上所述仅是本申请的具体实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
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