[实用新型]化学机械研磨装置有效

专利信息
申请号: 201621204094.5 申请日: 2016-11-08
公开(公告)号: CN207077306U 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: 安俊镐 申请(专利权)人: 凯斯科技股份有限公司
主分类号: B24B37/015 分类号: B24B37/015;B24B57/02
代理公司: 北京冠和权律师事务所11399 代理人: 朱健
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 化学 机械 研磨 装置
【权利要求书】:

1.一种化学机械研磨装置,其特征在于,包括:

研磨垫,其在化学机械研磨工艺中与基板接触;

研磨液供给部,其设置于所述研磨垫的上部,并将所述研磨垫的表面分割为多个表面区间,按照所述各个多个表面区间以相互不同的喷射条件来供给研磨液。

2.根据权利要求1所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述研磨液供给部按照所述各个多个表面区间以相互不同的喷射面积条件来供给所述研磨液。

3.根据权利要求1所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述多个表面区间被分割为沿着所述研磨垫的半径方向具有相互不同直径的环形态。

4.根据权利要求1所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述研磨液供给部包括:

第一研磨液喷射部;

第二研磨液喷射部,其以比所述第一研磨液喷射部相对较宽的喷射面积来喷射所述研磨液。

5.根据权利要求4所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述第一研磨液喷射部包括以间隔的形式进行配置的多个第一喷射喷嘴,

所述第二研磨液喷射部包括多个第二喷射喷嘴,所述多个第二喷射喷嘴以间隔比所述第一喷射喷嘴间的间隔间距相对较窄的间隔间距的形式进行配置。

6.根据权利要求4所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述第一研磨液喷射部在所述多个表面区间中温度相对较低的表面区间上喷射所述研磨液,

所述第二研磨液喷射部在所述多个表面区间中温度相对较高的表面区间上喷射所述研磨液。

7.根据权利要求6所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述第一研磨液喷射部将所述研磨液喷射至所述多个表面区间中与所述研磨垫的中央邻接的中央部表面区间以及与所述研磨垫的边缘邻接的边缘部表面区间,

所述第二研磨液喷射部将所述研磨液喷射至所述多个表面区间中配置于所述中央部表面区间与所述边缘表面区间之间的中间部表面区间,

所述基板的中心以与所述中间部表面区间邻接的形式接触于所述研磨垫。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

还包括喷射高度调节部,所述喷射高度调节部以与所述研磨垫的表面温度相对应的形式对通过所述研磨液供给部的所述研磨液的喷射高度进行调节。

9.根据权利要求8所述的化学机械研磨装置,其特征在于,所述喷射高度调节部包括:

移送部,其沿着上下方向来移送所述研磨液供给部;

温度测定部,其对所述研磨垫的表面温度进行测定;

控制部,其根据在所述温度测定部所测定的结果来控制所述移送部。

10.根据权利要求9所述的化学机械研磨装置,其特征在于,包括:

数据库,对于所述研磨液供给部的上限喷射高度及下限喷射高度的信息存储于所述数据库,

所述控制部以所述研磨液供给部配置于所述上限喷射高度及所述下限喷射高度之间的高度的形式来控制所述移送部。

11.根据权利要求9所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述温度测定部对沿着所述研磨垫的半径方向的所述多个表面区间中与所述基板的中心接触的中间部表面区间的温度进行测定。

12.根据权利要求1所述的化学机械研磨装置,其特征在于,还包括:

温度测定部,其对所述研磨垫的表面温度进行测定,

所述研磨液供给部根据在所述温度测定部所测定的结果通过不同的喷射条件将研磨液供给于所述研磨垫。

13.根据权利要求12所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述研磨垫的表面被分割为多个表面区间,

在所述研磨液供给步骤中,按照所述各个多个表面区间以相互不同的喷射条件来供给所述研磨液。

14.根据权利要求13所述的化学机械研磨装置,其特征在于,

所述研磨液供给部,

在所述多个表面区间中温度相对较高的表面区间通过相对较宽的喷射面积条件来供给所述研磨液,

在所述多个表面区间中温度相对较低的表面区间通过相对较窄的喷射面积条件来供给所述研磨液。

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