[实用新型]一种辊对辊紫外纳米压印装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种纳米压印装置，尤其是辊对辊紫外纳米压印装置。

背景技术

在十二世纪中期，半导体微电子技术以及微型化这两种技术从微型化的尺度来衡量，还停留在微米级技术的范畴，随着之后科技的不断进步与发展，半导体技术与微系统技术研究与制造技术不断突破，它们制造尺度逐步进入了更高精度的微纳米及纳米级范畴，从而促使纳米加工技术的诞生，实现了从微米到纳米的转变甚至跳跃。而此进步不仅只是量级的过渡，在微纳米技术加工方面更是一个质的飞跃。

随着纳米加工技术的成功提出和展现后，相关领域学者陆续提出了：纳米紫外光学曝光技术、电子束曝光技术、X射线曝光技术、极紫外曝光技术等新型纳米技术，在此之后纳米加工业在工业生产中愈发地受人注视。但是，纳米光刻加工技术由于原理限制，其精度、保真度无法得到高效的保证，从而导致所谓的低效高成本，紧紧地限制了其商业价值，即成为了商业化的重要隐患，而正因传统光学光刻技术的高成本缺陷，促使新非光学方法的开发。

近年来，纳米压印受到了极高度的重视，因为在不断完善更新中它成功地证明了它有成本低、分辨率高的潜力。20世纪末期，华裔科学家周郁先生提出并发展了该技术：纳米压印技术，将其使用到纳米科技中去，发现证实这是得到纳米结构的一种有效途经。而如今的较为成熟的纳米压印技术主要包括：热压印、紫外压印等技术。紫外压印和热压印的压印过程都是利用带有图形结构的模板通过物理方法使图案转移到所需衬底上，而这两种方法依然存在着问题：压印胶涂抹不均匀；压印辊与支撑辊中轴线不齐导致压印质量不好；压印辊与支撑辊之间的距离无法适应不同的待压印材料。

发明内容

本实用新型提供一种辊对辊紫外纳米压印装置，以解决压印胶涂抹不均匀，压印辊与支撑辊中轴线不齐导致压印质量不好，压印辊与支撑辊之间的距离无法适应不同的待压印材料的问题。

本实用新型采取的技术方案是：在外壳内有传输装置，传输装置的放卷辊后有电晕装置，涂布装置与微调装置通过螺纹连接，微调装置通过螺纹连接在外壳上，压印装置中的压印辊侧面有调节装置，所述的调节装置通过螺钉与底座连接，压印辊旁有紫外灯。

本实用新型所述的微调装置的结构是：涂布装置连接板通过柔性铰链与固定框连接，压电陶瓷通过预紧螺丝与固定框连接、并与涂布装置连接板顶接。

本实用新型所述的涂布装置包括空腔，空腔上有进气孔，进胶孔，空腔底部连接涂布辊，侧面有与调节装置连接的固定螺钉。

本实用新型所述的调节装置包括导轨，滚珠丝杠，减速器，电机三，滑动平台，微调装置二，其中，微调装置二与滑动平台螺纹连接，并且微调装置二与滑动平台之间形成空腔，用于安放与压印辊相连的电机。

本实用新型所述的放卷辊与电机一连接。

本实用新型所述的收卷辊与电机二连接。

本实用新型提出一种辊对辊紫外纳米压印装置，采用可调节的气压式涂布装置和可调节距离的压印装置，方便的得到纳米尺度的图案，同时又可以实现大面积流水线式的压印方法，提高生产效率。

本实用新型的优点是：

（1）由调节装置固定的压印辊与支撑辊能调整相对位置，提高位置精度。

（2）采用可调节的气压式涂布装置，在可以保证涂胶更均匀的同时，可以适应不同厚度的待压印材料。

（3）采用移动导轨和微动平台组成的调节装置对压印辊进行调节，可使压印图案的深宽比可以精确控制，并且脱模更容易。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图2是本实用新型的内部结构示意图；

图3是本实用新型涂布装置的轴测图；

图4是本实用新型调节装置的结构示意图；

图5是本实用新型是涂布装置与其对应的调节装置的装配图；

图6是本实用新型调节装置的结构示意图；

图中：

外壳1，传输装置2，放卷辊201，电机一201a，辅助辊一202a、辅助辊二202b、辅助辊三202c，收卷辊203，电机二203a，传送带204，电晕装置3，涂布装置4，空腔401，进气孔402，进胶孔403，固定螺丝404，涂布辊405，微调装置一5，柔性铰链501，压电陶瓷502，预紧螺丝503，涂布装置连接板504，固定框505，压印装置6，压印辊601，支撑辊602，调节装置7，导轨701，滚珠丝杠702，减速器703，电机三704，滑动平台705，微调装置二706，固化装置8。

具体实施方式