[实用新型]一种用于RenaNIKA制绒刻蚀设备的连接窗有效
| 申请号： | 201621215181.0 | 申请日： | 2016-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN206163511U | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 巢芳兴 | 申请（专利权）人： | 徐州鑫宇光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L31/0236 |
| 代理公司： | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙)32251 | 代理人： | 陆金星 |
| 地址： | 221000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 renanika 刻蚀 设备 连接 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于RenaNIKA制绒刻蚀设备的连接窗，其特征在于：其包括第一窗体和设置在第一窗体上并与第一窗体转动连接的第二窗体，所述第二窗体与第一窗体之间设有硅片通道，所述第一窗体和第二窗体的内表面靠近硅片的一侧为弧面。
2.根据权利要求1所述的用于RenaNIKA制绒刻蚀设备的连接窗，其特征在于：所述第一窗体包括平直段和设于平直段两侧的圆弧段，所述第二窗体与圆弧段转动连接。
3.根据权利要求2所述的用于RenaNIKA制绒刻蚀设备的连接窗，其特征在于：所述第二窗体与圆弧段经销轴连接。
4.根据权利要求1所述的用于RenaNIKA制绒刻蚀设备的连接窗，其特征在于：所述第一窗体和第二窗体为PVDF或PTFE窗体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
