[实用新型]特气管路及PECVD设备

说明书

技术领域

本实用新型属于太阳能电池制备技术领域，尤其涉及一种特气管路及PECVD设备。

背景技术

太阳能电池生产的主要流程为：制绒、扩散、湿法刻蚀、减反射膜的沉积、丝网印刷和烧结。

在常规太阳能电池生产流程中，硅片直接进行酸腐蚀制绒以形成绒面效果，从而起到减反射的作用。然后进行扩散形成一定扩散深度的PN结，接着进行湿法刻蚀处理去除硅片四周的扩散层和表面的绝缘层，避免PN结导通形成漏电。利用PECVD（ Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition -等离子体增强化学气相沉积)工艺沉积氮化硅减反射层，减少太阳光的反射损失同时起到钝化的作用，提高载流子的少子寿命，然后利用丝网将金属浆料印刷在硅片表面，最后通过烧结炉完成烧结工艺，形成太阳电池的正负极，完成太阳能电池片的制备。

PECVD镀膜折射率偏高时，太阳能电池的开路电压和短路电流都会降低，直接影响电池的转换效率，当膜厚均匀性差时，硅片镀膜膜厚折射率偏差较大，造成电池转换效率波动较大，尤其折射率偏高的电池效率明显降低。

传统板式PECVD镀膜设备采用的特气管路结构一样，每根特气管路均匀分布22个特气孔，如图3所示，当进行镀膜工艺时，石墨舟和特气管路的对应，由于特气孔为均匀分布，和石墨舟上硅片位置不完全对应，存在错位现象，影响片内镀膜均匀性。

现有板式PECVD镀膜设备，以SINA（德文Silizium硅-nitrid氮-anlage处理系统的缩写，是专门利用PECVD过程来沉积氮化硅薄膜的系统）设备为例主要有以下两种：

一、SINA1代设备采用的是所有特气管路结构相同，均为22个均匀性分布的特气孔；

二、SINA2代设备采用的是最后一组特气管路有补偿管路，两侧补偿管路各有3个特气孔，用于补偿石墨舟造成的镀膜红边，中间主管路为16个均匀分布的特气管路，补偿管路和中间主管路可以独自调整流量。

上述两种设备制备的硅片存在的缺陷是：1代设备镀膜红边；2代设备虽然可以补偿镀膜红边，但是当中间几片镀膜出现偏差时无法进行镀膜膜厚均匀性的调整。

实用新型内容

本实用新型提供的一种特气管路及PECVD设备，能够实现太阳能硅片镀膜膜厚折射率均匀精细调整，减少太阳能电池的色差，提高电池的转换效率。

为解决上述目的，本实用新型采取的技术方案是：一种特气管路，包括多段特气管，多段特气管的数量等于排列在石墨舟上的硅片的行数加二或列数加二，多段特气管呈一行或一列并与石墨舟上的硅片行或列平行，处于中间部位的各段特气管分别对应一行或一列硅片，处于两端的两个特气管对称分设在呈行列排布的硅片的两端，每段特气管上设有多个特气孔并设有进气孔，每段特气管均设有控制氨气和硅烷流量的质量流量计。

进一步地，与硅片对应的特气管上的特气孔的数量相同，处于两端的两个特气管上的特气孔的数量少于硅片对应的特气管上的特气孔的数量，每段特气管上的特气孔均沿各自特气管的长度方向均布，且各特气孔呈一直线排列，特气孔的开孔面向硅片。

进一步地，两端的特气管上的特气孔的数量比与硅片对应的特气管上的特气孔的数量少一。

进一步地，所述的特气管为5-8段，与硅片对应的每段特气管上的特气孔的数量为3-6个。

进一步地，特气孔直径为0.5-1.0mm。

进一步地，各特气管段之间留有间隙。

一种PECVD设备，包括腔室和多个特气管路，所述多个特气管路中至少包括一项上述的特气管路。

进一步地，PECVD设备为板式PECVD设备。

本实用新型的有益效果在于：本实用新型的特气管路分为多段，与呈行列排列的硅片对应，每段特气管都有相应的质量流量计控制氨气和硅烷流量，能够实现膜厚和折射率的单片调整，两端的两段特气管为补偿管路，用以补偿石墨舟造成的边缘膜不均匀的问题；本实用新型通过具有所述特气管路的PECVD设备可以实现太阳能硅片镀膜膜厚折射率均匀性的精细调整，减少太阳能电池的色差，提高电池的转换效率。

附图说明

图1是本实用新型特气管路实施例的结构示意图；

图2是本实用新型特气管路具体使用状态结构图；

图3是现有技术中特气管路的结构示意图；