[实用新型]一种B超耦合剂匀料涂抹瓶有效
申请号: | 201621227666.1 | 申请日: | 2016-11-16 |
公开(公告)号: | CN206548985U | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 孙艳平;林雁;郭文慧 | 申请(专利权)人: | 孙艳平 |
主分类号: | A61M35/00 | 分类号: | A61M35/00;A61B8/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 450000 河南省郑*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 耦合 剂匀料 涂抹 | ||
1.一种B超耦合剂匀料涂抹瓶,包括瓶体(1)、安装在瓶体(1)上部的盖体(2),其特征在于:所述的瓶体(1)的瓶口位置内侧安装有涂匀装置,涂匀装置通过螺纹连接的方式与瓶体(1)的瓶口内侧相连接,盖体(2)通过螺纹连接的方式与瓶体(1)的瓶口外侧相连接,在盖体(2)的内部设置有与涂匀装置相配合的防漏凹槽(6);所述的涂匀装置包括涂匀球(4),在涂匀球(4)上纵向开设有漏液孔(5),涂匀球(4)为顶面和底面均为弧面的球形结构,涂匀球(4)的侧面通过螺纹连接的方式与瓶体(1)的瓶口内侧相连接,漏液孔(5)呈辐射状均匀开设在涂匀球(4)的纵向方向。
2.根据权利要求1所述的B超耦合剂匀料涂抹瓶,其特征在于:所述的瓶体(1)的中部设置有手持凹槽(3),瓶体(1)的底部为向上凸起的弧形结构,手持凹槽(3)设置在瓶体(1)纵向的中部位置。
3.根据权利要求1所述的B超耦合剂匀料涂抹瓶,其特征在于:所述的防漏凹槽(6)为弧形凹槽状结构,防漏凹槽(6)与涂匀球(4)的顶面相互契合。
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