[实用新型]晶片倒角机

说明书

技术领域

本实用新型涉及打磨加工设备，特别涉及一种晶片倒角机。

背景技术

晶片作为光学器械的一个透光元件，需要被装配在光学器械中。由于晶片半成品的边缘较为锐利，在对晶片进行装配时，若没有对晶片的边缘进行倒角，一方面会增加晶片的装配难度，另一方面也会因晶片的侧翻而使晶片的边缘产生崩裂而影响到晶片的透光性。

目前，公告号为CN201664869U的中国专利公开了一种光学石英晶片双头倒角设备，它包括机架、设置在机架上方的精密砂轮机、精密位移架体和冷却系统等。其在对水晶片进行加工的时候，水晶片是放置在倾斜状的精密位移架体上面，精密位移架体挡边阻碍水晶片往下滑动，然后用手缓缓的移动水晶片使其需要加工的边经过精密砂轮机，进而完成倒角。

在加工的时候，砂轮直接对准水晶片进行加工，砂轮持续的对水晶片进行打磨，砂轮表面容易粘附有大量打磨出来的粉尘，粉尘在砂轮表面堆积过多容易影响砂轮的打磨效果。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种晶片倒角机，通过对砂轮表面持续的注射较为干净的循环水，进而保持砂轮表面的清洁。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种晶片倒角机，包括机架，所述机架上设置有工作台，所述工作台上面设置有用于放置晶片的放置台，所述机架上设有用于对晶体打磨的砂轮，所述机架上设置有水循环机构，所述水循环机构包括用于往砂轮上注水的冷却水管、连接在工作台表面的回流管、供回流管水流流入的集水箱，所述工作台外边缘上设置有阻碍水流走的凸边，所述集水箱内设置有与回流管连接的沉淀腔、与冷却水管连接的澄清腔，所述沉淀腔与澄清腔之间设置有用于分隔水流的隔板，所述隔板顶部开设有供水流流过的连通孔，所述冷却水管上面设置有用于驱动水流流动的水泵。

通过上述技术方案，水泵会驱动澄清腔内的水流经过冷却水管往砂轮上面注射，进行对砂轮表面的冲洗。冲洗完毕的水流掉落到工作台上面，工作台上凸边的结构，水流能够在工作台上面汇聚起来，避免水流的浪费流失。然后流入到回流管内，最后进入到集水箱的沉淀腔内，水流能够在沉淀腔内积攒，被冲刷出来的粉尘逐渐沉淀，表面上较为清澈的液体从连通孔进入到澄清腔内，然后收到水泵的驱动重新对砂轮进行清洗。这样砂轮始终受到较为清澈的水流冲刷，砂轮表面保持较为的清澈，打磨效果比较稳定。同时，水流冲刷能够带走打磨过程中产生的热量，减少砂轮、水晶片局部受热的情况。再者，水流的循环利用，减少了水资源的浪费，提高了水流的利用率。

本实用新型进一步设置为：所述沉淀腔底部设置有用于排屑的排污管。

通过上述技术方案，排污管的结构能够让沉积在沉淀腔底部的粉末或者碎屑排出，能够起到一个回收废料的作用，避免了沉淀腔内沉淀物过多的情况。

本实用新型进一步设置为：所述澄清腔内设置有与外界水管连接且用于补水的补水管。

通过上述技术方案，水流在回收过程中难免会出现一定的泄漏的情况，人们可以通过补水管对集水箱内的水流进行补水，使得循环水保持一个持续循环的状态，避免出现断流的情况。

本实用新型进一步设置为：所述补水管内设置有用于密封的阀板，所述阀板上设置有用于驱动阀板打开的复位件，所述澄清腔内设置用于驱动阀板打开的浮球，浮球与阀板之间设置有用于连接的连接绳。

通过上述技术方案，阀板能够控制补水管的开闭，结合浮球，阀板在水位较低的情况下受到浮球的拉力较小，阀板受到复位件的驱动，处于打开状态，随后补水管内的水流会进入到澄清腔内，完成补水的工作。一旦水位高了，浮球会上升，进而带动阀板关闭，阻碍补水管进水。利用这种结构，阀板能够随着液位的升降自行的打开关闭，起到自动调节内部水量的作用，结构简单，效果明显。

本实用新型进一步设置为：所述工作台上设置有X轴走向的导轨，所述导轨上面设置有滑块，所述滑块上设有用于固定滑块位置的紧固件，所述滑块上面有可沿Y轴走向自由滑动的滑板，所述放置台设置在滑板上，所述机架上竖直设置有可转动的丝杆，所述丝杆上设置有供砂轮安装的活动台，丝杆可通过转动带动活动台竖直位移。