[实用新型]一种DMD结构多轴固定光路直写曝光机有效

专利信息
申请号: 201621246486.8 申请日: 2016-11-22
公开(公告)号: CN206331234U 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 李阳 申请(专利权)人: 无锡影速半导体科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司23211 代理人: 耿晓岳
地址: 214135 江苏省无锡市新吴*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 dmd 结构 固定 光路直写 曝光
【权利要求书】:

1.一种DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,所述DMD结构多轴固定光路直写曝光机包括支撑结构、DMD结构、多个运动组件、真空吸盘;每个运动组件包括一个扫描Y轴和一个升降Z轴;真空吸盘位于运动组件上方;

所述真空吸盘包括吸盘主体和真空发生装置;吸盘主体上以行和列的形式分布一定数量的气孔,每一行气孔各对应一个继电器,每一列气孔也各对应一个继电器;每个气孔与真空发生装置之间连接有气孔开关;气孔开关同时与该气孔所在行的继电器和该气孔所在列的继电器连接;

所述气孔在吸盘主体上呈中间疏、四周密的分布形式,所述气孔的行间距和列间距由吸盘主体中间到两边呈均匀递减的形式。

2.根据权利要求1所述的DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,所述气孔的开口形状为圆形。

3.根据权利要求1所述的DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,所述吸盘主体的盘面为一整体盘面或由多块盘面组合而成。

4.根据权利要求1所述的DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,所述气孔开关位于气孔与真空发生装置连接的真空管路上。

5.根据权利要求1所述的DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,位于吸盘主体中部区域的气孔的行间距或列间距最大为2.9英寸,位于吸盘主体边缘区域的气孔的行间距或列间距最小为5.2mm。

6.根据权利要求1所述的DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,所述多个运动组件之间沿X轴方向并列设置。

7.根据权利要求1所述的DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,所述运动组件个数为两个。

8.根据权利要求3所述的DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,所述真空吸盘的吸盘主体由左右两个大小相同的盘面合并而成;每个盘面对应一个运动组件。

9.根据权利要求8所述的DMD结构多轴固定光路直写曝光机,其特征在于,所述两个盘面之间不采取任何连接,或者采用球铰链结构连接,或者采用硬连接。

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