[实用新型]一种X射线聚焦光学聚焦性能测量装置

权利要求书

1.一种X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，包括沿光轴依次设置的X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器以及后端的数据处理系统和用于定位调节所述待测X射线聚焦光学的多维调节机构，其特征在于：

还包括可见光波段的激光器和相应的半导体探测器；所述X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器和半导体探测器均位于真空管道内，其中，X射线源和激光器位于真空管道的一端，且激光器能够取代X射线源位置用于定位光轴，X射线成像探测器和半导体探测器位于真空管道的另一端，通过探测器切换机构选择X射线成像探测器和半导体探测器之一定位于光轴上，以实现利用激光器校正和多维调节机构来保证X射线源、待测X射线聚焦光学和X射线成像探测器的同轴性。

2.根据权利要求1所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述探测器切换机构也位于真空管道内，所述半导体探测器与X射线成像探测器共同固定安装于探测器切换机构的前端面上，半导体探测器和X射线成像探测器输入面共面，且与待测X射线聚焦光学的焦平面重合，通过旋转来选择探测器；半导体探测器和X射线成像探测器的中心分别与探测器切换机构的旋转中心等距。

3.根据权利要求2所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述探测器切换机构的后端面中部设置有转轴，驱动方式为电动或手动方式。

4.根据权利要求2所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述探测器切换机构设置有光轴对准标记，该光轴对准标记与探测器中心的距离和与探测器切换机构中心的距离相等。

5.根据权利要求1所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述真空管道的中心轴即作为光轴。

6.根据权利要求1所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述X射线源采用X射线管或激光等离子体光源。

7.根据权利要求1所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述X射线成像探测器为基于MCP的探测器，包括微通道板、荧光屏、光学成像系统以及CCD或CMOS相机；荧光屏位于微通道板的输出端，距离微通道板输出端0.5～2mm，采用近贴聚焦方式；微通道板通过单块或者是多块级联方式实现对X射线光子的探测和倍增，所述多块级联采取两块“V”形级联或三块“Z”性级联结构。

8.根据权利要求7所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述X射线成像探测器中的光学成像系统采用广角镜头或者标准镜头，或者采用光锥将荧光屏图像直接与CCD或CMOS进行耦合。

9.根据权利要求7所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述X射线成像探测器中微通道板施加有工作电压；荧光屏和微通道板输出端之间也施加有电压，用于对微通道板输出电子云团的加速，轰击荧光屏发光。

10.根据权利要求1所述的X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，其特征在于：所述半导体探测器采用高时间分辨和高能量分辨探测器，具体为硅漂移探测器或者硅PIN探测器。