[实用新型]测量氯硅烷中痕量磷杂质含量的样品预处理装置有效
| 申请号： | 201621260598.9 | 申请日： | 2016-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN206430966U | 公开（公告）日： | 2017-08-22 |
| 发明（设计）人： | 黄国强;刘帅峰;张卿成 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | G01N1/34 | 分类号： | G01N1/34;G01N21/33 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所12201 | 代理人： | 王丽 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 测量 硅烷 痕量 杂质 含量 样品 预处理 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种测量氯硅烷中痕量磷杂质含量的样品预处理装置：其特征是装置依次设置有氮气供应装置、加热蒸发装置、水解装置、过滤装置、溶解装置和收集装置；氮气供应装置中设置有氮气钢瓶和节流阀，加热蒸发装置设置有加热蒸发器和加热套，水解装置设置有水解反应器和锥形气体分布器，过滤装置设置有布氏漏斗和抽滤瓶，溶解装置设置有溶解器和磁力搅拌器，收集装置设置有容量瓶。
2.如权利要求1所述的装置，其特征是在加热蒸发装置中的氮气出口管位置比氮气和四氯化硅混合气体入口管位置高。
3.如权利要求1所述的装置，其特征是所述的锥形气体分布器进行水解操作时锥形气体分布器浸入液面以下为≤1/3。
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