[实用新型]一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置有效
| 申请号： | 201621261615.0 | 申请日： | 2016-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN206216510U | 公开（公告）日： | 2017-06-06 |
| 发明（设计）人： | 陈从贺 | 申请（专利权）人： | 福州恒光光电有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/00 | 分类号： | B24B57/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350000 福建省福州市开发区M951*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学 晶体 研磨 抛光 处理 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置，其特征在于：包括一个抛光液混合容器，所述抛光液混合容器的内部侧壁上设有便于混合抛光液的叶片，所述抛光液混合容器倾斜置于一个旋转驱动装置上，所述旋转驱动装置中设有三个能够支撑驱动所述抛光液混合容器的驱动辊轮，其中设于最低端的所述驱动辊轮连接有驱动电机，所述抛光液混合容器的底部设有一个抛光液出口，所述抛光液混合容器内部靠近所述抛光液出口处设有一次过滤网片，所述一次过滤网片上设有便于更换的过滤布，所述抛光液出口连接一个精密过滤装置，所述精密过滤装置中设有两层过滤介质，两层所述过滤介质之间设有一个过渡腔体，所述过渡腔体的侧壁上连接有一个杂质收集槽，所述精密过滤装置的出口连接抛光液供给装置，所述精密过滤装置的出口还设有一个过滤介质吹气反清洗接口，所述过滤介质吹气反清洗接口连接有清洁压缩气源。
2.根据权利要求1所述的一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置，其特征在于：所述抛光液混合容器和精密过滤装置之间设有一个活动连接的软管，所述软管上设有自动控制的开关阀门。
3.根据权利要求1所述的一种光学晶体研磨抛光用抛光液处理装置，其特征在于：所述杂质收集槽中设有一个能够阻隔杂质又能够透气的立式过滤栅格。
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