[实用新型]碳化钨镀膜的钨制离子植入机结构及离子植入机有效

专利信息
申请号: 201621265438.3 申请日: 2016-11-24
公开(公告)号: CN206210747U 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 潘俊斌;余庆璋 申请(专利权)人: 建泓科技实业股份有限公司
主分类号: H01J37/317 分类号: H01J37/317;H01J37/16
代理公司: 广州三环专利代理有限公司44202 代理人: 郑裕涵
地址: 中国台湾台北市南*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 碳化 镀膜 离子 植入 结构
【权利要求书】:

1.一种碳化钨镀膜的钨制离子植入机结构,其特征在于,所述碳化钨镀膜的钨制离子植入机结构包括:

一主体层,所述主体层为含钨金属的化合物或纯钨金属;以及

一碳化钨镀膜层,所述碳化钨镀膜层是设在所述主体层之上。

2.一种使用如权利要求1所述的碳化钨镀膜的钨制离子植入机结构的离子植入机,其特征在于,其中包含:

一主机部,是为提供电压;以及

一离子腔,所述离子腔与所述主机部连接,并保持真空,其中所述离子腔还包含:

一底板,与所述主机部连接;

四个隔板,其中各所述隔板具有底边与所述底板连接,各所述隔板的两侧边分别与相邻的所述隔板连接;

一离子腔出口,其中所述离子腔出口与各所述隔板的顶边连接;以及

四个侧板,其中各所述侧板分别与对应各所述隔板连接;

其中所述底板、各所述隔板、所述离子腔出口的其中之一或任二者以上为所述主体层。

3.一种使用如权利要求1所述的碳化钨镀膜的钨制离子植入机结构的离子植入机,其特征在于,其中包含:

一主机部,是为提供电压;以及

一离子腔,所述离子腔与所述主机部连接,并保持真空,其中所述离子腔还包含:

一底板,与所述主机部连接;

四个隔板,其中各所述隔板具有底边与所述底板连接,各所述隔板的两侧边分别与相邻的所述隔板连接;

一第一离子腔出口,其中所述离子腔出口与各所述隔板的顶边连接;

一第二离子腔出口,其中所述第二离子腔出口设在所述第一离子腔出口之上;以及

四个侧板,其中各所述侧板分别与对应各所述隔板连接;

其中所述底板、各所述隔板、所述第一离子腔出口、所述第二离子腔出口的其中之一或任二者以上为所述主体层。

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