[实用新型]可见宽光谱消偏振分光片

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种分光片，特别涉及一种可见宽光谱消偏振分光片。

背景技术

分光片广泛应用于光电仪器、激光系统、光电显示系统和光存储等领域，通常情况下分光片常常倾斜使用，把入射光分束成反射光和透射光两部分。当光线斜入射到光学薄膜时，由于电场和磁场在每个界面上的切向分量均连续，因此S分量和P分量的有效折射率将不同，这使得薄膜不可避免地产生偏振效应，人们常利用这种特性来设计和制造偏振分光器等光学偏振器件。但在另一些光学系统应用中又希望能够消除偏振效应。

消偏振分光器件一般被设计成胶合棱镜的结构，即消偏振分光棱镜。通过对棱镜斜面镀膜并胶合配对棱镜的方案来实现，其加工工艺复杂、加工流程长、最终成品率低、加工成本高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服以上缺点，提供一种可见宽光谱消偏振分光片，该分光片不仅有效地降低了加工难度，减少加工成本，便于设计生产，而且膜层硬度和牢固度好，其工作波段为450-650nm，透反比为45：45，S分量和P分量的差值小于±5％。

本实用新型是这样实现的：一种可见宽光谱消偏振分光片，其特征在于：该分光片由光学玻璃基底以及沉积在光学玻璃基底上的分光膜组成，所述分光膜由10层膜层组成，该10层膜层从内至外依次为：第1层，介质材料Al₂O₃膜层，厚度为4.99-5.1nm；第2层，金属材料Ag膜层，厚度为25.3-25.8nm；第3层，介质材料TiO₂膜层，厚度为32.5-33.2nm；第4层，介质材料SiO₂膜层，厚度为138.7-141.5nm；第5层，介质材料TiO₂膜层，厚度为25.0-25.5nm；第6层，介质材料Al₂O₃膜层，厚度为109.4-111.6nm；第7层，介质材料MgF2膜层，厚度为129.4-132.0nm；第8层，介质材料TiO₂膜层，厚度为13.3-13.6nm；第9层，介质材料Al₂O₃膜层，厚度为50.9-52.0nm；第10层，介质材料MgF2膜层，厚度为104.0-106.2nm。

本实用新型的制造工艺包括：在真空镀膜机内，利用真空镀膜技术在光学玻璃基底上依次精确沉积规定厚度要求的金属材料Ag膜层，介质材料TiO2膜层、Al2O3膜层、SiO2膜层和MgF2膜层，最终形成所述的10层分光膜层。

优选地，所述10层膜层的厚度依次为：第1层，介质材料Al₂O₃膜层，厚度为5.0nm；第2层，金属材料Ag膜层，厚度为25.6nm；第3层，介质材料TiO₂膜层，厚度为32.9nm；第4层，介质材料SiO₂膜层，厚度为140.1nm；第5层，介质材料TiO₂膜层，厚度为25.2nm；第6层，介质材料Al₂O₃膜层，厚度为110.5nm；第7层，介质材料MgF2膜层，厚度为130.7nm；第8层，介质材料TiO₂膜层，厚度为13.4nm；第9层，介质材料Al₂O₃膜层，厚度为51.4nm；第10层，介质材料MgF2膜层，厚度为105.1nm。

优选地，所述光学玻璃基底的折射率为1.49-1.52。

优选地，所述光学玻璃基板采用K9或D263T或B270或BK7。

较之现有技术而言，本实用新型具有以下优点：

(1)相比消偏振分光棱镜而言，只用光学玻璃平片镀分光膜即可实现可见光宽光谱消偏振分光效果，其物理结构和光学结构简单，首先光学玻璃平片的基底容易获得或加工，其次无需进行棱镜材料配对选型、无需进行棱镜三面抛光加工、无需棱镜胶合固化，加工流程明显缩短、加工难度大大降低、加工成本显著降低；

(2)本实用新型提供的可见宽光谱消偏振分光片，相比只镀介质膜的消偏振分光片而言，使用金属材料膜层加多种介质材料膜层组合，能制备工作波段更宽的消偏振分光膜，其工作波段能覆盖450-650nm的可见宽光谱，而且其层数少，膜厚薄，总层数仅10层，而相对波段全介质消偏振分光片(其膜层超过60层)而言，大大降低了镀膜成本。

附图说明

下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步说明：