[实用新型]消偏振分光片有效
| 申请号： | 201621269148.6 | 申请日： | 2016-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN206270529U | 公开（公告）日： | 2017-06-20 |
| 发明（设计）人： | 朱元强 | 申请（专利权）人： | 福建福特科光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 福州市众韬专利代理事务所(普通合伙)35220 | 代理人： | 王旭,王良财 |
| 地址： | 350100 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏振 分光 | ||
1.一种消偏振分光片，其特征在于：该分光片由光学玻璃基底以及沉积在光学玻璃基底上的分光膜组成，所述分光膜由14层膜层组成，该14层膜层由高折射率介质材料TiO2膜层和低折射率介质材料SiO2膜层多次交替堆叠组成，该14层膜层从内至外依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为49.3-50.3nm；第2层，SiO2膜层，厚度为84.2-85.9nm；第3层，TiO2膜层，厚度为39.5-40.3nm；第4层，SiO2膜层，厚度为67.0-68.3nm；第5层，TiO2膜层，厚度为36.2-37.0nm；第6层，SiO2膜层，厚度为77.3-78.9nm；第7层，TiO2膜层，厚度为49.0-50.0nm；第8层，SiO2膜层，厚度为101.1-103.2nm；第9层，TiO2膜层，厚度为58.4-59.5nm；第10层，SiO2膜层，厚度为114.4-116.7nm，第11层，TiO2膜层，厚度为85.8-87.5nm；第12层，SiO2膜层，厚度为196.8-200.8nm；第13层，TiO2膜层，厚度为79.5-81.1nm；第14层，SiO2膜层，厚度为154.6-157.7nm。
2.根据权利要求1所述的消偏振分光片，其特征在于：所述14层膜层的厚度依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为49.8nm；第2层，SiO2膜层，厚度为85.1nm；第3层，TiO2膜层，厚度为39.9nm；第4层，SiO2膜层，厚度为67.7nm；第5层，TiO2膜层，厚度为36.6nm；第6层，SiO2膜层，厚度为78.1nm；第7层，TiO2膜层，厚度为49.5nm；第8层，SiO2膜层，厚度为102.1nm；第9层，TiO2膜层，厚度为59.0nm；第10层，SiO2膜层，厚度为115.6nm，第11层，TiO2膜层，厚度为86.6nm；第12层，SiO2膜层，厚度为198.8nm；第13层，TiO2膜层，厚度为80.3nm；第14层，SiO2膜层，厚度为156.1nm。
3.根据权利要求1或2所述的消偏振分光片，其特征在于：所述光学玻璃基底的折射率为1.49-1.56。
4.根据权利要求1或2所述的消偏振分光片，其特征在于：所述光学玻璃基底采用K9或D263T或B270或BK7等。
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