[实用新型]光刻机环境监测系统及其远程监控系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，尤其是涉及一种光刻机环境监测系统及其远程监控系统。

背景技术

光刻技术是用于在基底表面上印刷具有特征构图的技术。这样的基底可用于制造半导体平台、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片等。

随着科技的不断发展，直写式光刻机(LDI)因其高精度高效率而逐步投入到印制电路板行业，因此保证光刻机的设备运行状态正常具有重要的意义，光刻机的运行环境是直接影响光刻机的设备运行状态。

光刻机的运行环境要求比较严格，而目前现有光刻机无法实现内部运行运行环境的监测，而且，常常是当设备出现问题时才能发现设备的内部运行环境不正常，导致设备故障，此外，需要由技术人员定期检查设备环境及运行状态，不仅浪费人力物力，而且无法实时了解设备的内部环境的运行情况。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种光刻机环境监测系统及其远程监控系统。以解决现有技术的光刻机无法监测当前环境是否符合达到设备运行环境的技术问题，能够实现设备运行状态环境的实时监测。

第一方面，本实用新型实施例提供了一种光刻机环境监测系统，包括光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块，还包括：信号采集模块、显示模块、环境模块，其中，

所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与所述环境模块相连接，所述环境模块与所述信号采集模块相连接，所述信号采集模块与所述显示模块相连接。

光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别与环境模块相连接，环境模块与信号采集模块相连接，环境模块直接采集光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块的运行环境参数，并由信号采集模块处理环境参数，然后显示在与信号采集模块相连接的显示模块上，从而可以直观地监测光刻机各个模块的运行环境，实现了实时、直观的监测光刻机设备的运行环境状况，可以直观的了解当前环境是否符合设备运行环境的要求。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第一种可能的实施方式，其中，所述光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块分别通过温湿度传感器与所述环境模块相连接。

光源模块、聚焦模块、数字微镜模块、平台模块的下方均设置有相应的温湿度传感器，温湿度传感器可以将各模块的温湿度参数转化为电信号传递给环境模块，环境模块将存储和读取到的温湿度参数传递给信号采集模块进行预处理。

结合第一方面的第一种可能的实施方式，本实用新型实施例提供了第一方面的第二种可能的实施方式，其中，所述信号采集模块包括信号调理器和模数转换器，其中，

所述信号调理器对所述温湿度传感器采集的温湿度参数信号进行放大、滤波调理，输出模拟信号；

所述模数转换器将所述模拟信号转换为数字信号。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第三种可能的实施方式，其中，还包括信号比较模块和报警模块，其中，

所述信号采集模块与所述信号比较模块相连接，所述信号比较模块与所述报警模块相连接。

信号比较模块可以将采集到的信号与预设参数进行比较，超出预设范围值时，通过与之相连接的报警模块发出警报，提醒相关人员设备故障，方便及时维修，从而可以实现实时的对环境进行监测，响应时间快，在提示相关操作人员环境异常的同时对设备进行保护及报警。

结合第一方面，本实用新型实施例提供了第一方面的第四种可能的实施方式，其中，该光刻机环境监测系统还包括气路模块，其中，

所述气路模块与所述环境模块相连，所述气路模块上设置有真空度模块，所述真空度模块用于监测所述气路模块的真空度。

第二方面，本实用新型实施例还提供了一种远程监控系统，用于远程监控光刻机环境监测系统，包括信号接收模块以及第一方面及其可能的实施方式所述的光刻机环境监测系统，其中，

所述光刻机环境监测系统中的信号采集模块与所述信号接收模块通信连接。

为了进一步的实时监测光刻机设备的状态，在特殊情况下，例如当人员离开时，设备断电运行或者运输过程中，对设备环境进行监测，本实施例提供了一种远程监控系统可以实现远程监控光刻机环境监测系统，实时监测设备的运行环境状态。

结合第二方面，本实用新型实施例提供了第二方面的第一种可能的实施方式，其中，所述光刻机环境监测系统还包括信号加密模块，其中，

所述信号加密模块与所述信号采集模块相连接。