[实用新型]一种磁电式水表有效
申请号: | 201621283733.1 | 申请日: | 2016-11-25 |
公开(公告)号: | CN206208315U | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 吴玉晓;吴超;李海增;马云杰;王书超;寸周阳;高霏;李献 | 申请(专利权)人: | 北京奥特美克科技股份有限公司 |
主分类号: | G01F1/05 | 分类号: | G01F1/05 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 100193 北京市海淀区西北旺东路*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁电 水表 | ||
技术领域
本实用新型涉及水量计量技术领域,尤其涉及一种磁电式水表。
背景技术
水表是一种测量水的使用量的装置。常见于自来水的用户端,其数值用以计算水费的依据。水表通常总测量单位为立方英尺(ft3)或是立方米(m3)。
传统水表为机械水表,一般由叶轮、涡轮涡杆传动机构、计数器、显示码盘等几部分组成。叶轮位于水流中,当水在管道中流动,水流冲击叶轮轮周的叶片,产生转矩,使叶轮在水流的推动下旋转。叶轮旋转后,涡轮涡杆机构将叶轮的垂直旋转转换成水平旋转并传递给计数器的传动机构,传动机构将转速进行变比减速,最终传递给计数码盘显示。
但传统水表经常会出现涡轮涡杆的螺旋机构卡死,不能正常运转的情况,从而导致水表计数不准确或不计数的问题。
现有技术中提供一种磁电式水表,采用两个线圈切割磁感线进行计数,但其功耗较大。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供一种磁电式水表,以解决现有技术中磁电式水表进行计数时,两个线圈功耗较大的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种磁电式水表,包括叶轮、第一磁阻元件、第二磁阻元件、线圈、第一电路和控制器单元;
所述叶轮包括多个叶片、叶轮轴和磁体,所述磁体位于所述叶轮的其中一个叶片上,且沿所述叶轮轴方向,设置在所述叶片的边缘;
所述线圈位于所述叶轮外,用于在所述叶轮转动时,切割所述磁体的磁感线,形成感应电动势;
所述第一电路的输入端与所述线圈相连,所述第一电路将所述线圈上产生的感应电动势转换成第一电脉冲信号;
所述第一磁阻元件位于所述叶轮外,用于在所述叶轮转动时,切割所述磁体的磁感线,产生磁阻变化,并生成第一磁阻电信号;
所述第二磁阻元件位于所述叶轮外,用于在所述叶轮转动时,切割所述磁体的磁感线,产生磁阻变化,并生成第二磁阻电信号;
所述控制器单元与所述第一电路的输出端相连,并与所述第一磁阻元件和所述第二磁阻元件相连,用于根据所述第一电脉冲信号、第一磁阻电信号或第二磁阻电信号的个数确定水的流量,以实现对水量计数的目的。
优选地,在所述叶片上沿垂直于所述叶轮轴的方向上,所述磁体位于所述叶片的中间。
优选地,在垂直于所述叶轮轴的平面内,所述线圈的投影位于所述磁体的运动轨迹投影上,且所述线圈位于所述叶轮的靠近所述磁体的一侧。
优选地,在垂直于所述叶轮轴的平面内,所述第一磁阻元件和所述第二磁阻元件的投影位于所述磁体的运动轨迹投影上,且所述第一磁阻元件、所述第二磁阻元件与所述线圈位于所述叶轮的同一侧。
优选地,在垂直于所述叶轮轴的平面内,当所述磁体的投影与所述线圈的投影重合时,所述线圈与所述磁体之间的距离范围为4mm-6.5mm,包括端点值。
优选地,还包括无磁体,所述无磁体安装在所述叶轮的其他叶片上,用于与所述磁体配重,使得所述叶轮保持平衡。
优选地,还包括第二电路和第三电路,其中,所述第二电路和第三电路均为滤波电路,所述控制器单元通过所述第二电路与所述第一磁阻元件相连,所述控制器单元通过所述第三电路与所述第二磁阻元件相连。
优选地,所述磁体为钕铁硼磁体。
优选地,所述线圈为铜材质漆包线。
优选地,所述控制器单元为单片机或微控制单元。
经由上述的技术方案可知,本实用新型提供的磁电式水表,包括叶轮、第一磁阻元件、第二磁阻元件、线圈、第一电路和控制器单元,所述叶轮上设置有磁体,叶轮转动过程中带动磁体转动,而线圈、第一磁阻元件和第二磁阻元件设置在叶轮外,线圈切割磁体的磁感线,并通过第一电路转换为第一电脉冲信号;第一磁阻元件和第二磁阻元件切割磁体的磁感线,产生第一磁阻电信号和第二磁阻电信号,从而使得控制器根据所述第一电脉冲信号、第一磁阻电信号或第二磁阻电信号的个数确定水的流量,实现水量的采集。本实用新型采用磁体加线圈和两个磁阻元件的计数方式,在使叶轮计数达到了非接触式,有效地避免了涡轮涡杆机构堵塞,解决了水表计数不准确或不计数的问题的基础上,由于磁阻元件的功耗相对于线圈的功耗而言更加小,从而本实用新型提供的磁电式水表相对于现有技术中两个线圈的磁电式水表功耗更小。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京奥特美克科技股份有限公司,未经北京奥特美克科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621283733.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。