[实用新型]一种光刻机的硅片转移装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种转移装置，尤其涉及一种光刻机的硅片转移装置。

背景技术

在集成电路芯片的生产过程中，芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印(光刻)是其中最重要的工序之一，该工序所用的设备称为光刻机(曝光机)。光刻机是集成电路加工过程中最关键的设备。而光刻机的光刻过程中，需要利用取片装置将片盒中的硅片逐片取出，而然后在传递到硅片输送装置上，硅片输送装置将硅片送至校正平台上进行硅片校正，最后再利用硅片转移装置将硅片送至光刻工位上光刻，光刻完成后，又逆向返回最终通过取片装置将硅片回送至片盒中。

然目前的硅片转移装置包括一个转移框，该转移框水平滑动在光刻工位和校正工位之间，转移框由动力装置驱动滑动；当转移框处于校正工位时，校正装置将硅片校正完成后送至转移框上，转移框将硅片送至光刻工位上进行光刻，光刻完成后，硅片再由转移框回送至校正工位，最终逆向返回至片盒中。然这种硅片转移装置至少具有以下缺点：1、该硅片转移装置结构并不合理，时间的利用率较低，造成转移效率慢，等待时间长，从而限制了光刻机的光刻效率；2.该硅片转移装置的转移框的移动是通过伺服电机配合两个接触开光来实现定位，转移框到校正工位或光刻工位时均会与对应的接触开关接触，实现准确的定位。但是由于硅片的校正要求越来越严格，硅片的边缘设置了定位口，因此校正的时间会越来越长，而上述的硅片移动结构等待的时间更长。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是：提供一种光刻机的硅片转移装置，该硅片转移装置利用两个错位的转移架配合使用，其中一个转移架在光刻工位时，另一个转移架处于校正工位等待校正，这样极大的提高了转移的效率，提高了光刻效率。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：一种光刻机的硅片转移装置，包括机架，所述机架上设置有成直线排列的等待工位、校正工位和光刻工位，所述机架上水平滑动安装有错位设置的第一转移架和第二转移架，所述第一转移架和第二转移架的滑动方向与校正工位和光刻工位的连线平行，所述第一转移架和第二转移架均与同一个水平动力装置传动连接，该第一转移架和第二转移架的运动状态相反；所述第一转移架处于光刻工位时，第二转移架处于校正工位一侧的等待工位；所述第一转移架和第二转移架的结构相同，所述第一转移架包括第一滑板，所述第一滑板滑动安装于机架上，所述第一滑板的底部安装有水平设置的第一转移框，所述第一转移框上设置有避让校正机构的避让口，所述第一转移框上设置有与抽气系统连通的吸气孔，所述机架上设置有校正对射式传感器的发射端，该校正对射式传感器的发射端位置与校正工位位置对应，对应的所述第一滑板以及第二转移架上的第二滑板上均设置有校正对射式传感器的接收端，所述机架上还设置有对第一转移架或第二转移架定位于光刻工位的光刻定位装置。

作为一种优选的方案，所述机架上设置有安装侧板，所述安装侧板上设置有平行的上滑槽和下滑槽，所述第一滑板包括第一水平板部和第一竖直板部，所述第一水平板部滑动安装于上滑槽内，所述第二转移架的第二滑板与第一滑板的结构相同；第二滑板的第二水平板部滑动安装于下滑槽内，所述第一滑板的第一水平板部以及第二滑板的第二水平板部均与所述水平动力装置传动连接。

作为一种优选的方案，所述上滑槽和下滑槽的长度相同，且上滑槽的两端分别与等待工位和光刻工位位置对应；所述校正对射式传感器的发射端的位置对应于上滑槽的中段且处于等待工位和光刻工位之间。

作为一种优选的方案，所述水平动力装置包括转动安装于安装侧板上的主动带轮和从动带轮，所述主动带轮与伺服电机连接，所述主动带轮和从动带轮之间安装有封闭的皮带环，所述第一水平板部和第二水平板分别固定于皮带环的上皮带段和下皮带段上。

作为一种优选的方案，所述第一转移框包括三根第一转移杆，所述三根第一转移杆依次连接成矩形框结构，所述吸气孔设置于三根第一转移杆上，所述三根第一转移杆中靠近安装侧板的一根第一转移杆通过第一连接杆与第一滑板的底部连接，第一连接杆处于安装侧板的下方，所述第一转移框的高度低于第二转移框的高度，第一滑板的第一竖直板部与安装侧板之间设置有方便第二滑板穿过的通过间隙。

作为一种优选的方案，所述光刻定位装置包括设置于上滑槽和下滑槽的同侧端部的第一接触开关和第二接触开光，所述第一接触开光和第二接触开光分别与第一转移架和第二转移架对应配合。