[实用新型]研磨清洗机构有效

专利信息
申请号: 201621292267.3 申请日: 2016-11-28
公开(公告)号: CN206193397U 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 郑魁明;刘鑫;殷楷;邱欠欠;杨岭;汪俊成;晏江;何洋;高江;董彦武;周新星;杨世煜 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 柴亮,张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 研磨 清洗 机构
【说明书】:

技术领域

实用新型属于研磨清洗技术领域,具体涉及一种研磨清洗机构,尤其是用于显示面板的研磨清洗机构。

背景技术

在向显示面板上贴附各种膜层(如向液晶显示面板上贴附偏光膜)前,要对显示面板的表面进行清洗,以保证贴附的均匀紧密。以上清洗可为研磨清洗,如图1所示,先在研磨头1上包裹分布有研磨颗粒(如氧化铝)的研磨布,之后驱动研磨头1旋转并在显示面板9表面移动,对显示面板9进行研磨,除去其表面的颗粒、残胶、碎屑等污染物。

如图1所示,研磨头1旋转时覆盖的区域是圆形的,而显示面板9多是矩形的,故若要磨到显示面板9的角部,则研磨头1必须部分超出显示面板9。而研磨头1超出显示面板9的部分会与显示面板9边缘发生摩擦,从而损伤边缘电极等结构;同时,也会造成研磨布严重磨损,降低其使用寿命;另外,还会造成研磨颗粒、显示面板9的玻璃颗粒等脱落,成为新的污染物,降低清洗效果。例如,下表为对研磨清洗后显示面板9表面某位置的污染物的EDS(Energy Dispersive Spectrometer)成分分析结果,可见污染物主要为碳、氧、铝、硅等元素,而这些是研磨颗粒和显示面板9的玻璃的主要成分。

元素重量百分比(%)原子百分比(%)C13.7120.89O50.858.18Al7.194.88Si20.6213.44Zr3.440.69Ca4.21.92

实用新型内容

本实用新型至少部分解决现有的研磨清洗机构会损伤显示面板,降低研磨布寿命,清洗效果不佳的问题,提供一种不会损伤显示面板,可延长研磨布寿命,清洗效果好的研磨清洗机构。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种研磨清洗机构,其包括:

研磨头,用于设置研磨布;

振动单元,用于驱动所述研磨头沿平行于研磨面的方向振动,所述研磨面为研磨布设在研磨头上时用于进行研磨的面。

优选的是,所述研磨清洗机构还包括:连接在研磨头上的缓冲结构,其远离研磨头的一侧用于设置研磨布,且其用于朝向研磨面的部分为由柔性材料构成的缓冲层。

进一步优选的是,所述缓冲层由海绵构成。

进一步优选的是,所述缓冲结构与研磨头可拆卸连接。

进一步优选的是,所述缓冲结构还包括与研磨头可拆卸连接的连接部,所述缓冲层连接在所述连接部上。

进一步优选的是,所述连接部由树脂材料构成。

进一步优选的是,所述连接部与所述研磨头卡接连接。

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