[实用新型]一种半导体闭管扩散用真空设备有效
申请号: | 201621294337.9 | 申请日: | 2016-11-29 |
公开(公告)号: | CN206363988U | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 胡艳;岳爱文;钟行;刘科 | 申请(专利权)人: | 武汉光迅科技股份有限公司;武汉电信器件有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01J37/16 |
代理公司: | 深圳市爱迪森知识产权代理事务所(普通合伙)44341 | 代理人: | 何婷 |
地址: | 430074 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半导体 扩散 真空设备 | ||
1.一种半导体闭管扩散用真空设备,其特征在于,所述真空设备包括:工位接口(1)、放气阀(2)、第一电阻规(3)、旁抽阀(4)、主抽阀(5)、电离规(6)、分子泵(7)、第二电阻规(8)、前级阀(9)和机械泵(10),
所述工位接口(1)通过旁路连接所述机械泵(10);所述工位接口(1)还通过主路串联所述分子泵(7)后连接到所述机械泵(10);
位于所述旁路上,在所述工位接口(1)与所述机械泵(10)之间串联有所述放气阀(2)、所述第一电阻规(3)、所述旁抽阀(4);
位于所述主路上,在所述工位接口(1)与所述机械泵(10)之间串联有所述主抽阀(5)、所述电离规(6)、所述分子泵(7)、所述第二电阻规(8)和所述前级阀(9)。
2.根据权利要求1所述的真空设备,其特征在于,所述放气阀(2)、旁抽阀(4)、主抽阀(5)和前级阀(9)为电磁阀或者机械阀。
3.根据权利要求2所述的真空设备,其特征在于,所述真空设备还包括工位传感器(111)和比较器(101),
所述工位传感器(111)、放气阀(2)、第一电阻规(3)、旁抽阀(4)、主抽阀(5)、电离规(6)、分子泵(7)、第二电阻规(8)、前级阀(9)和机械泵(10),连接所述比较器(101);
其中,工位传感器(111)、第一电阻规(3)、电离规(6)和第二电阻规(8),连接所述比较器(101)的输入端;
所述放气阀(2)、旁抽阀(4)、主抽阀(5)、分子泵(7)、前级阀(9)和机械泵(10),连接所述比较器(101)的输出端。
4.根据权利要求3所述的真空设备,其特征在于,所述比较器(101)为比较器集成芯片LM339,所述LM339包括比较器1、比较器2、比较器3和比较器4,则放气阀(2)和工位传感器(111)信号进行逻辑与之后连接比较器1的正向输入端,比较器1的输出端连接机械泵(10)和旁抽阀(4),用于在放气阀(2)关闭且工位传感器(111)检测到有石英管时,控制所述机械泵(10)和旁抽阀(4)的打开;
第一电阻规(3)连接比较器2的反向输入端,比较器2的输出端连接旁抽阀(4)和前级阀(9),用于在第一电阻规(3)检测值小于0.1Pa时,控制所述旁抽阀(4)的关闭和前级阀(9)的打开;
第二电阻规(8)连接比较器3的反向输入端,比较器3的输出端连接分子泵(7)和主抽阀(5),用于在第二电阻规(8)检测值小于1Pa时,控制所述分子泵(7)打开和主抽阀(5)打开;
主抽阀(5)连接比较器4的正向输入端,比较器4的输出端连接分子泵(7),用于在主抽阀(5)关闭时,关闭所述分子泵(7)。
5.根据权利要求1-4任一所述的真空设备,其特征在于,所述主路上位于所述分子泵(7)的入口前设置有过滤网,所述过滤网密度小于1um。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造