[实用新型]一种XRD样品调节装置

说明书

技术领域

本实用新型属于物理实验领域，涉及一种XRD样品调节装置。

背景技术

衍射仪对样品粉末颗粒尺寸的要求比粉末照相法的要求高得多，粉末相比较来说比较易得到。如果样品是块状而且是由高度无序取向的微晶颗粒组成的话，例如某些岩石、金属以及蜡和皂类样品，在粉末照相法中可以直接使用，在衍射仪中也可以直接使用，不过需加工出一个平面。金属和合金样品常可碾压成平板使用，但是在这种冷加工过程中常会引起择优取向，需要考虑适当的退火处理。退火的时间和温度，以仅发生复原过程为原则。

在XRD检测过程中，对于块状样品的准备工作，必须有足够的重视。有时常常由于急于要看到衍射图，或舍不得花必要的功夫而马虎地准备样品，这样常会给实验数据带入显著的误差甚至无法解释，造成混乱。

实用新型内容

本实用新型为解决XRD检测过程中，块状样品制备要求高，制备繁琐，需要时间长的技术问题，公开了一种XRD样品调节装置。

为解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

一种XRD样品调节装置，包括加热室、传送装置、研磨装置和箱体，所述加热室由外壳、夹层、内槽、端口、盖塞、加热环、基座和第三导线组成，夹层设于外壳和内槽之间，加热环位于内槽底部，加热环与第三导线相连；所述传送装置由传送弯道、传送带、托槽和第二导线组成，传送弯道包括进料道和传送道，进料道道口与加热室室口重合，进料道与传送道垂直设置，传送道穿过加热室与出料口相接，传送道与加热环相对处设有导热体，导热体上方设有传送带，传送带位于传送弯道内，传送带上设有托槽，传送带与电机相连；所述研磨装置由磨盘、履带、第一导线和电机室组成，磨盘与履带相连，履带由电机室控制；箱体上设有控制模块和出料口，控制模块通过第一导线与电机室相连、通过第二导线与电机相连、通过第三导线与加热环相连。

所述外壳与内槽的底部之间设有凸起。

所述磨盘的个数为4-10个。

本实用新型的有益效果在于：本实用新型将加热装置、传送装置和研磨装置结合起来用于XRD样品的制备，实现了块状样品制备的机械化、智能化，大大缩短了制备时间，节约了劳动力。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为传送带的结构示意图。

图3为研磨装置的结构示意图。

图4为箱体的结构示意图。

具体实施方式

如图1-4所示的，一种XRD样品调节装置，包括加热室、传送装置、研磨装置和箱体21，所述加热室由外壳2、夹层19、内槽4、端口22、盖塞8、加热环3、基座1和第三导线18组成，夹层19设于外壳2和内槽4之间，加热环3位于内槽4底部，加热环3与第三导线18相连；所述传送装置由传送弯道7、传送带6、托槽9和第二导线16组成，传送弯道7包括进料道71和传送道72，进料道71道口与加热室室口重合，进料道71与传送道72垂直设置，传送道72穿过加热室与出料口15相接，传送道72与加热环3相对处设有导热体5，导热体5上方设有传送带6，传送带6位于传送弯道7内，传送带6上设有托槽9，传送带6与电机17相连；所述研磨装置由磨盘10、履带11、第一导线13和电机室12组成，磨盘10与履带11相连，履带11由电机室12控制；箱体21上设有控制模块14和出料口15，控制模块14通过第一导线13与电机室12相连、通过第二导线16与电机17相连、通过第三导线18与加热环3相连。所述外壳2与内槽4的底部之间设有凸起20。所述磨盘10的个数为4-10个。

本实用新型的使用方法如下：通过夹子，将样品加入到托槽9内，盖上塞盖8，打开开关，传送带6缓慢将样品传送至磨盘10下方，快速转动的磨盘10将样品迅速研磨，研磨之后可由传送带6传送至出料口15，本实用新型可实现块状样品的连续研磨。