[实用新型]量子点宽谱单光子探测器有效
申请号: | 201621307788.1 | 申请日: | 2016-12-01 |
公开(公告)号: | CN206210817U | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 陈龙;侯颖;乔丹 | 申请(专利权)人: | 无锡纳瓦特电子有限公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0352 |
代理公司: | 北京中誉威圣知识产权代理有限公司11279 | 代理人: | 张静轩 |
地址: | 214111 江苏省无锡市新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子 点宽谱单 光子 探测器 | ||
1.量子点宽谱单光子探测器,其特征在于:包括光吸收层、雪崩倍增结构层;所述光吸收层包括量子点层、多孔硅层,所述量子点层下方设置有多孔硅层;所述量子点层,用于吸收光子;所述多孔硅层,用于作为量子点吸收光子的宿主材料;所述雪崩倍增结构层为平面型硅雪崩二极管,所述硅雪崩二极管设置在多孔硅层下方,所述硅雪崩二极管包括重掺杂N+型层、重掺杂P+型层、P型层、重掺杂P型掩埋层、N型硅衬底、Au阴极、Au阳极、重掺杂P+区、重掺杂N++区;所述P型层长在重掺杂P型掩埋层上,所述重掺杂P型掩埋层,用于确保电流通路的低阻,在结构底部形成电极层;所述重掺杂N+型层嵌入P型层,用于制造出盆型区,形成虚拟保护环;所述P型层内注入重掺杂P+型层,用于决定有源区;所述重掺杂P+区(10)热沉提供了电极接触;所述Au阴极(8)、Au阳极(9)形成电极;所述重掺杂N++区长在N型硅衬底上,用于将单光子探测器与芯片上周围器件电学隔离。
2.根据权利要求1所述的量子点宽谱单光子探测器,其特征在于:所述量子点层为PbS量子点层,可探测可见到红外波段的双波段宽光谱。
3.根据权利要求1所述的量子点宽谱单光子探测器,其特征在于:重掺杂N+型层和重掺杂P+型层构成的PN结形成长耗尽区,用于增益雪崩放大。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的