[实用新型]上下料装置有效
申请号: | 201621335184.8 | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN206401281U | 公开(公告)日: | 2017-08-11 |
发明(设计)人: | 王骏明;吴昊;魏帮范;谢天舒;黄恩 | 申请(专利权)人: | 无锡市瑞能科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214233 江苏省无*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 上下 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种上下料装置,特别是涉及一种半导体晶圆腐蚀清洗设备上的上下料装置;用于半导体晶圆腐蚀清洗行业,提高晶圆腐蚀清洗设备的稳定性。
背景技术
半导体是指一种导电性可受控制,范围可从绝缘体至导体之间的材料;无论从科技或是经济发展的角度来看,半导体的重要性都是非常巨大的;但上下料装置的稳定性的技术难题一直存在,半导体晶圆腐蚀清洗设备上的上下料装置作为一种重要的机械装置,其稳定性的提高势在必行。
目前,市场上半导体晶圆清洗机所配套的上下料装置,结构笨重,制造成本高,功率消耗大,稳定性差,安装拆卸困难,造成晶圆清洗过程中耗能严重、清洗效率低。
本实用新型提供的技术方案克服技术难关,提高了上下料装置的稳定性、提高了产能和清洗效率,降低了安装、拆卸难度。
实用新型内容
本实用新型提供的一种半导体晶圆腐蚀清洗设备上的上下料装置,实现了半导体晶圆清洗过程的高效率,高产能的目的。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案为:本实用新型的上下料装置,包括z方向带导杆气缸模块,x方向滑块导轨模块,y方向滑块导轨模块,无杆气缸模块,支撑架,限位模块,篮具托板;其特征在于:z方向带导杆气缸模块安装于y方向滑块导轨模块上;x方向滑块导轨模块安装于支撑架上;y方向滑块导轨模块安装于x方向滑块导轨模块上;z方向带导杆气缸模块安装于篮具托板上;限位模块安装于支撑架上。
附图说明
图1为本实用新型总体结构的等轴测视图。
具体实施方式
下面结合附图详细叙述本实用新型的具体实施方式。
一种上下料装置,包括1、z方向带导杆气缸模块,2、x方向滑块导轨模块,3、y方向滑块导轨模块,4、无杆气缸模块,5、支撑架,6、限位模块,7、篮具托板。
根据本实用新型的一种实施方式,所述z方向带导杆气缸模块安装在y方向滑块导轨模块上,驱动篮具托板上下运动。
根据本实用新型的一种实施方式,所述x方向滑块导轨模块安装于支撑架上,驱动y 方向滑块导轨模块和篮具托板共同左右运动。
根据本实用新型的一种实施方式,所述y方向滑块导轨模块安装于x方向滑块导轨模块上,驱动篮具托板前后运动。
根据本实用新型的一种实施方式,所述z方向带导杆气缸模块安装于篮具托板上,驱动篮具托板上下运动。
根据本实用新型的一种实施方式,所述限位模块安装于支撑架上,限制x方向滑块导轨模块和y方向滑块导轨模块的移动范围。
以上实施例仅为本实用新型的示例性实施例,不用于限制本实用新型,各模块之间的组合视为本实用新型的保护范围,本实用新型的具体保护范围有附加的权利要求书限定。本领域技术人员可以在本实用新型的实质保护范围内,对本实用新型做出各种修改或等同替换,这种修改或等同替换也应视为落在本实用新型的保护范围内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造