[实用新型]一种棱镜抛光设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及棱镜加工技术领域，具体涉及一种棱镜抛光设备。

背景技术

非接触抛光是指工件与抛光工具在抛光时不发生接触，仅仅使用抛光液冲击工件表面，非接触抛光的去除量小，加工棱镜能够获得高面形精度和极低的粗糙度值。现有的非接触抛光工艺包括离子束抛光、激光抛光、等离子体辅助抛光等，这些非接触抛光方法目前处于发展阶段，存在设备和加工成本高、加工过程中的监测技术和精度控制技术要求高的缺点。

实用新型内容

本实用新型的目的在于公开了一种棱镜抛光设备，解决了现有非接触抛光技术加工成本高、检测和精度控制要求高的问题。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种棱镜抛光设备，包括机架、连接机架的抛光轮、连接抛光轮且驱动抛光轮转动的轮驱动装置、用于喷出磁流变液体的喷嘴、设于机架上的工作台、设于工作台上且用于夹紧棱镜的升降治具和磁流变液体循环结构；抛光轮设于升降治具上方，工作台设有抛光液回收口，抛光液回收口连接磁流变液体循环结构的收集器，磁流变液体循环结构的出口连接喷嘴，喷嘴朝向升降夹具，喷嘴的位置和抛光轮的位置相配合且与升降夹具的位置相配合；抛光轮包括轮本体和伸入轮本体内的磁场发生装置。

进一步，所述磁流变液体循环结构还包括连接所述收集器的液体冷却系统 和水泵，水泵的入水口连接液体冷却系统，水泵的出水口连接所述喷嘴。

进一步，所述磁场发生装置由钕铁硼或铁氧体磁石制成。

进一步，所述轮本体的外表面形成网格槽。

进一步，所述升降治具包括治具台、治具升降气缸、设于治具台上且用于支撑所述棱镜的支撑架、设于支撑架右侧的右导轨、用于卡住棱镜右侧的右滑块、设于支撑架左侧的左导轨和用于卡住棱镜左侧的左滑块；治具升降气缸连接治具台的底部且驱动治具台升降；左滑块活动连接左导轨且沿着左导轨位移，右滑块活动连接右导轨且沿着右导轨位移，左滑块和右滑块位移到位并配合实现卡紧棱镜。

进一步，所述支撑架的顶部形成用于容纳所述棱镜的容纳槽。

进一步，所述左导轨和所述右导轨沿着水平方向设置。

进一步，所述轮本体21由钢材料制成。

进一步，所述左滑块、所述右滑块治具台、所述支撑架、所述右导轨、所述右滑块、所述左导轨和所述左滑块均为塑料材料制成的结构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型采用喷出磁流变液体的喷嘴和抛光轮配合，实现对升降治具上的棱镜抛光，且采用磁流变液体循环结构实现抛光液的循环利用，提高生产效率和抛光率，避免生产过程中的浪费。采用带磁场的抛光轮和升降治具配合的结构，利用磁流变抛光技术，对棱镜表面进行有效抛光，获得高光镜面效果；抛光效率高、抛光工艺简单易操作，适合工业化生产中使用；磁流变液体绿色无毒环保，且价格低廉。加工成本低、检测和精度控制操作人员的经验或技能要求低要求低。

2、升降治具采用左滑块沿着左导轨位移，右滑块沿着右导轨位移。工作时 左滑块和右滑块位移到位并配合实现卡紧棱镜的结构，适合夹紧多种形状的棱镜，通用性强，夹具成本低。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型一种棱镜抛光设备实施例的结构示意图；

图2是图1中升降治具的结构示意图；

图中，1-机架；2-抛光轮；21-轮本体；22-磁场发生装置；3-喷嘴；4-工作台；5-升降治具；51-治具台；52-治具升降气缸；53-支撑架；54-右导轨；55-右滑块；56-左导轨；57-左滑块；6-磁流变液体循环结构；61-收集器；62-液体冷却系统；63-水泵。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。