[实用新型]用于棱镜抛光的设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及棱镜加工技术领域，具体涉及用于棱镜抛光的设备。

背景技术

非接触抛光是指工件与抛光工具在抛光时不发生接触，仅仅使用抛光液冲击工件表面，非接触抛光的去除量小，加工棱镜能够获得高面形精度和极低的粗糙度值。现有的非接触抛光工艺包括离子束抛光、激光抛光、等离子体辅助抛光等，这些非接触抛光方法目前处于发展阶段，存在设备和加工成本高、加工过程中的监测技术和精度控制技术要求高的缺点。

实用新型内容

本实用新型的目的在于公开了用于棱镜抛光的设备，解决了现有非接触抛光技术加工成本高、检测和精度控制要求高的问题。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

用于棱镜抛光的设备，包括机架、设于机架上的工作台、设于工作台上且用于容纳磁流变抛光液的塑料器皿、设于塑料器皿内的升降治具、位于升降治具上方且与升降治具配合的抛光工具、用于驱动抛光工具上升或下降的升降装置和连接机架的主轴，抛光工具通过升降装置连接主轴；抛光工具包括抛光头、套设于抛光头上的套筒和设于套筒内的磁石，磁石连接抛光头实现在抛光头表面形成磁场。

进一步，所述抛光头由钢材料制成。

进一步，所述套筒由硬质铝合金制成。

进一步，所述磁石由钕铁硼或铁氧体磁石制成。

进一步，所述抛光头的顶部伸出所述套筒且呈圆弧面状，抛光头的底部深入套筒且连接所述磁石。

进一步，所述抛光头和所述套筒分别与所述磁石可拆卸连接，抛光头和套筒可拆卸连接。

进一步，所述升降治具包括治具台、治具升降气缸、设于治具台上且用于支撑棱镜的支撑架、设于支撑架右侧的右导轨、用于卡住棱镜右侧的右滑块、设于支撑架左侧的左导轨和用于卡住棱镜左侧的左滑块；治具升降气缸连接治具台的底部且驱动治具台升降；左滑块活动连接左导轨且沿着左导轨位移，右滑块活动连接右导轨且沿着右导轨位移，工作时左滑块和右滑块位移到位并配合实现卡紧棱镜。

进一步，所述支撑架的顶部形成用于容纳所述棱镜的容纳槽，容纳槽的形状与棱镜的形状相配合。

进一步，所述左导轨和所述右导轨沿着水平方向设置。

进一步，所述左滑块、所述右滑块治具台、所述支撑架、所述右导轨、所述右滑块、所述左导轨和所述左滑块均为塑料材料制成的结构。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型采用带磁场的抛光工具和升降治具配合的结构，利用磁流变抛光技术，对棱镜表面进行有效抛光，获得高光镜面效果；抛光效率高、抛光工艺简单易操作，适合工业化生产中使用；磁流变抛光液绿色无毒环保，且价格低廉。加工成本低、检测和精度控制操作人员的经验或技能要求低要求低。

2、抛光头和套筒分别与磁石可拆卸连接，抛光头表面磁场强度的大小通过更换套筒内部的磁石实现；抛光头和套筒可拆卸连接，可根据需要的磁场形状 和强度更换抛光头的形状，通用性高。

3、升降治具采用左滑块沿着左导轨位移，右滑块沿着右导轨位移。工作时左滑块和右滑块位移到位并配合实现卡紧棱镜的结构，适合夹紧多种形状的棱镜，通用性强，夹具成本低。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型“用于棱镜抛光的设备”实施例的结构示意图；

图2是图1中升降治具的结构示意图。

图中，1-机架；2-工作台；3-塑料器皿；4-升降治具；41-治具台；42-治具升降气缸；43-支撑架；容纳槽；44-右导轨；45-右滑块；46-左导轨；47-左滑块；5-抛光工具；51-抛光头；52-套筒；6-升降装置；7-主轴。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。