[实用新型]一种适合中柱气隙加工的锰锌铁氧体磁芯坯件有效
申请号: | 201621349724.8 | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN206312715U | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 董卫;张卫东;彭中华;汪晓菊;刘晓东 | 申请(专利权)人: | 上海宝钢磁业有限公司 |
主分类号: | H01F27/255 | 分类号: | H01F27/255 |
代理公司: | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司31227 | 代理人: | 吴泽群 |
地址: | 201900 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 适合 中柱气隙 加工 铁氧体 磁芯坯件 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种磁芯坯件,特别涉及一种适合中柱气隙加工的锰锌铁氧体磁芯坯件。
背景技术
锰锌铁氧体磁芯具有热阻小、衰耗小、功率大、工作频率宽等优点,其广泛应用于体积小而功率大的变压器。锰锌铁氧体磁芯的生产过程由颗粒料制备、压型、烧结、磨加工和分检五道工序组成。压型是将颗粒料借助模具使用压机通过压力成型的方法生产出磁芯坯件,然后将坯件在氮窑上烧结反应生成锰锌铁氧体磁芯坯件。磨加工是在磁芯坯件的结合面进行研磨,得到合适的电感值。为了防止锰锌铁氧体磁芯出现磁饱和,需要在磁芯结合面开设气隙,一般在磁芯中柱上开设气隙,具有电感稳定、漏磁少、电磁干扰小的优点。传统的锰锌铁氧体磁芯坯件一般边脚和中柱等高,先进行底座加工,再进行边脚和中柱的结合面加工,最后进行中柱气隙加工。
为了使现有的EQX锰锌铁氧体磁芯电感稳定,防止在变压器使用中出现磁饱和,需要在其中柱研磨气隙。EQX磁芯坯件的边脚呈优弧包围中柱,无法使用精密的通过式磨床进行中柱气隙加工,因为会在EQX磁芯坯件的边脚同样留下气隙,这在EQX磁芯使用中是不允许的,所以EQX磁芯坯件只能使用立式磨床进行中柱气隙加工。使用立式中柱气隙加工时EQX磁芯坯件只能一个一个研磨,不能像通过式中柱气隙加工那样连续快速加工,而且立式中柱气隙加工的速度也要大大低于通过式中柱气隙加工,尤其在中柱气隙深度超过1mm时,立式中柱气隙加工效率会更低。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的是提供一种适合中柱气隙加工的锰锌铁氧体磁芯坯件,能够大大提高磁芯坯件中柱气隙加工的生产效率。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:一种适合中柱气隙加工的锰锌铁氧体磁芯坯件,包括底座,所述底座上垂直设置有圆柱形的中柱以及包围中柱的边脚,所述边角与中柱之间具有优弧形的间隙,所述中柱顶部低于边脚顶部,所述底座底面的中间位置沿宽度方向设置有排胶槽。
进一步,中柱顶部与边脚顶部之间的垂直距离为2~5mm。
进一步,排胶槽的宽度为中柱直径的1/3~1/2,排胶槽深度为0.05~0.25mm。
本实用新型的优点在于:
1.磁芯坯件中柱顶部低于边脚顶部,只需研磨磁芯坯件边脚到规定尺寸,便可完成磁芯坯件中柱气隙加工,减少传统磁芯坯件中柱研磨开隙这一加工步骤,大大提高了磁芯坯件中柱气隙加工的生产效率;
2.磁芯坯件中柱顶部低于边脚顶部,在多层叠烧时留出的空隙有助于烧结排胶,再加上磁芯坯件底座开设的排胶槽,防止多层叠烧时磁芯坯件中柱开裂,提高了磁芯坯件烧结质量和产量。
附图说明
图1是本实用新型提出的一种适合中柱气隙加工的锰锌铁氧体磁芯坯件的主视图;
图2是本实用新型提出的一种适合中柱气隙加工的锰锌铁氧体磁芯坯件的俯视图。
附图标记:1、边脚;2、中柱;3、底座;4、排胶槽。
具体实施方式
为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合图示与具体实施例,进一步阐述本实用新型。
如图1-2所示,本实用新型提出的一种适合中柱气隙加工的锰锌铁氧体磁芯坯件,包括底座3,所述底座3上垂直设置有圆柱形的中柱2以及包围中柱2的边脚1,所述边角1与中柱2之间具有优弧形的间隙,所述中柱2顶部低于边脚1顶部,所述底座3底面的中间位置沿宽度方向设置有排胶槽4。
进一步,中柱2顶部与边脚1顶部之间的垂直距离为2~5mm。
进一步,排胶槽4的宽度为中柱2直径的1/3~1/2,排胶槽4深度为0.05~0.25mm。
本实用新型磁芯坯件中柱顶部低于边脚顶部,只需研磨磁芯坯件边脚到规定尺寸,便可完成磁芯坯件中柱气隙加工,减少传统磁芯坯件中柱研磨开隙这一加工步骤,大大提高了磁芯坯件中柱气隙加工的生产效率;磁芯坯件中柱顶部低于边脚顶部,在多层叠烧时留出的空隙有助于烧结排胶,再加上磁芯坯件底座开设的排胶槽,防止多层叠烧时磁芯坯件中柱开裂,提高了磁芯坯件烧结质量和产量。
以上实施方式只为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让本领域的技术人员了解本实用新型的内容并加以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围,凡根据本实用新型精神实质所做的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围内。
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