[实用新型]用于测试钕铁硼磁体镀层结合力的自动跌落设备有效

专利信息
申请号: 201621368611.2 申请日: 2016-12-14
公开(公告)号: CN206450813U 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 李文庆 申请(专利权)人: 京磁材料科技股份有限公司
主分类号: G01R33/12 分类号: G01R33/12
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)11369 代理人: 史霞
地址: 101300 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 测试 钕铁硼 磁体 镀层 结合 自动 跌落 设备
【权利要求书】:

1.用于测试钕铁硼磁体的电镀结合力的自动跌落设备,其特征在于,包括:

支架,其上设置有一水平往复移动机构和一竖直往复移动机构;

跌落容器,其具有一第一活动部以打开或者封闭所述跌落容器的底端面,所述跌落容器在所述竖直往复移动机构驱动下位于第一位置或第二位置;

收集容器,其具有一第二活动部以打开或者封闭所述收集容器的底端面,所述收集容器在所述水平往复移动机构驱动下位于第三位置或第四位置;

其中,所述第一位置高于所述第二位置;

所述第三位置和所述第一位置、所述第二位置处于同一条竖直线上;

且所述第三位置位于所第一位置和所述第二位置之间。

2.如权利要求1所述的用于测试钕铁硼磁体的电镀结合力的自动跌落设备,其特征在于,

初始状态时,所述跌落容器处于第一位置,位于所述收集容器正上方,所述第一活动部打开,所述跌落容器内的待测试钕铁硼磁体跌落至所述收集容器;

之后,所述收集容器水平移动至第四位置并处于所述跌落容器一侧,所述跌落容器下降至第二位置;

所述收集容器水平移动至第三位置并位于所述跌落容器的正上方,所述第二活动部打开所述收集容器内的待测试钕铁硼磁体落入所述跌落容器中;

之后,所述收集容器水平移动至第四位置并处于所述跌落容器一侧,所述跌落容器上升至第一位置后,所述收集容器水平移动至第三位置并位于所述跌落容器的正下方恢复至初始状态。

3.如权利要求1所述的用于测试钕铁硼磁体的电镀结合力的自动跌落设备,其特征在于,所述水平往复移动机构为气缸;所述竖直往复移动机构为传送带,其通过一电机驱动。

4.如权利要求1所述的用于测试钕铁硼磁体的电镀结合力的自动跌落设备,其特征在于,所述跌落容器为漏斗状,所述收集容器为圆筒状。

5.如权利要求3所述的用于测试钕铁硼磁体的电镀结合力的自动跌落设备,其特征在于,还包括:

磁栅尺,其设置在所述传送带一侧,并将磁信号发送至PLC控制器;

所述PLC控制器,其与所述气缸和所述电机电连接,所述PLC控制器根据接收到的磁信号的变化判断所述跌落容器的位置,并向所述电机发送开始或者停止工作的命令;

计数器,其用于统计所述收集容器的运动次数进而统计自动跌落测试的次数。

6.如权利要求3所述的用于测试钕铁硼磁体的电镀结合力的自动跌落设备,其特征在于,所述支架采用空心不锈钢管制成,所述支架外侧用透明玻璃或者透明亚克力板包围,并在其上设置有一观察窗口。

7.如权利要求6所述的用于测试钕铁硼磁体的电镀结合力的自动跌落设备,其特征在于,所述第一活动部包括:

设置在所述跌落容器的下端的两个水平条形孔,所述两个水平条形孔设置在所述跌落容器的一条直径线的两端;

一插接板,其一端设置有一把手,另一端设置有一通孔,所述插接板穿过所述水平条形孔伸出至所述跌落容器;

销子,其具有一大直径头部和一小直径颈部,并按照大直径头部在上小直径颈部在下的方式插入所述通孔内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京磁材料科技股份有限公司,未经京磁材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621368611.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top