[实用新型]一种在LED灯带表面形成纳米层的设备有效
申请号: | 201621368633.9 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN206580884U | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 李高;吕鹤男;陈洪河;陈强;刘玉生 | 申请(专利权)人: | 广州市莱帝亚照明股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 广州中浚雄杰知识产权代理有限责任公司44254 | 代理人: | 李肇伟 |
地址: | 510800 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 led 表面 形成 纳米 设备 | ||
1.一种在LED灯带表面形成纳米层的设备,其特征在于:包括升华炉、裂解炉、沉积罐、冷阱和真空泵;所述升华炉的输入端与裂解炉的输入端连通,所述裂解炉的输出端与沉积罐的输入端连接,所述沉积罐内形成涂装空间,在涂装空间的底部设有用于放置LED灯带的托盘,所述沉积罐的输入端位于沉积罐的上部,所述沉积罐的中部设有余料输出口,所述余料输出口与冷阱顶部的输入口连通,所述冷阱内的底部设有收集盘,所述真空泵的输入端与冷阱连通。
2.根据权利要求1所述的一种在LED灯带表面形成纳米层的设备,其特征在于:所述沉积罐为圆柱体,托盘的底部设有驱动托盘旋转的旋转电机。
3.根据权利要求1所述的一种在LED灯带表面形成纳米层的设备,其特征在于:所述升华炉包括第一炉体和对第一炉体加热到150-200℃的第一加热装置。
4.根据权利要求1所述的一种在LED灯带表面形成纳米层的设备,其特征在于:所述裂解炉包括第二炉体和对第二炉体加热到650-700℃的第二加热装置。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的