[实用新型]插槽总成

权利要求书

1.一种插槽总成，用以供一工作件插设，其特征在于，该插槽总成包括：

一座体；

一基体，该座体设置于该基体且于该座体及该基体之间形成一容置空间，该容置空间具有一开口端，该工作件经由该开口端进出该容置空间；

一推抵件，能够活动地设置于该基体，且该推抵件位于该容置空间，该推抵件相对于该基体具有较接近该开口端的一释放位置及较远离该开口端的一受抵位置，该推抵件用以受该工作件推抵而自该释放位置移动至该受抵位置；以及

一散热件，能够活动地设置于该基体，且该散热件位于该容置空间，该散热件具有一热接触面背向该基体且用以与该工作件热接触，该推抵件设置于该散热件，该推抵件位于该释放位置时该散热件具有该热接触面较接近该基体的一偏离位置，该推抵件位于该受抵位置时该散热件具有该热接触面较远离该基体且与该工作件热接触的一热接触位置。

2.根据权利要求1所述的插槽总成，其特征在于，更包括一导引件，沿该基体的表面活动地设置于该基体，该推抵件固定于该导引件且经由该导引件而能够活动地设置于该基体，该散热件具有一导引轨道，该导引件包括沿该导引轨道移动的至少一导引块，该导引轨道具有接近该开口端的一第一端及远离该开口端的一第二端，该第一端至该热接触面的距离小于该第二端至该热接触面的距离，该推抵件位于该释放位置时该至少一导引块位于该第一端以使该热接触面较接近该基体进而使该散热件位于该偏离位置，该推抵件自该释放位置移动至该受抵位置时带动该至少一导引块自该第一端朝向该第二端移动以使该热接触面较远离该基体进而使该散热件位于该热接触位置。

3.根据权利要求1所述的插槽总成，其特征在于，更包括一导引件，沿该基体的表面活动地设置于该基体，该推抵件固定于该导引件且经由该导引件而能够活动地设置于该基体，该导引件具有一导引轨道，该散热件包括沿该导引轨道移动的至少一导引块，该导引轨道具有接近该开口端的一第一端及远离该开口端的一第二端，该第一端至该基体的距离大于该第二端至该基体的距离，该推抵件位于该释放位置时该至少一导引块位于该第二端以使该散热件较接近该基体进而位于该偏离位置，该推抵件自该释放位置移动至该受抵位置时带动该至少一导引块自该第二端朝向该第一端移动以使该散热件较远离该基体进而位于该热接触位置。

4.根据权利要求1所述的插槽总成，其特征在于，更包括一导引件，固定于该基体，该推抵件固定于该散热件且经由该散热件而能够活动地设置于该基体，该散热件具有一导引轨道，该导引件包括沿该导引轨道移动的至少一导引块，该导引轨道具有接近该开口端的一第一端及远离该开口端的一第二端，该第一端至该热接触面的距离大于该第二端至该热接触面的距离，该推抵件位于该释放位置时该至少一导引块位于该第二端以使该热接触面较接近该基体进而使该散热件位于该偏离位置，该推抵件自该释放位置移动至该受抵位置时该至少一导引块自该第二端朝向该第一端移动以使该热接触面较远离该基体进而使该散热件位于该热接触位置。

5.根据权利要求1所述的插槽总成，其特征在于，更包括一导引件，固定于该基体，该推抵件固定于该导引件且经由该导引件而能够活动地设置于该基体，该导引件具有一导引轨道，该散热件包括沿该导引轨道移动的至少一导引块，该导引轨道具有接近该开口端的一第一端及远离该开口端的一第二端，该第一端至该基体的距离小于该第二端至该基体的距离，该推抵件位于该释放位置时该至少一导引块位于该第一端以使该散热件较接近该基体进而位于该偏离位置，该推抵件自该释放位置移动至该受抵位置时带动该至少一导引块自该第一端朝向该第二端移动以使该散热件较远离该基体进而位于该热接触位置。

6.根据权利要求2至5的任一所述的插槽总成，其特征在于，该导引轨道为一沟槽，该至少一导引块能够移动地位于该沟槽内。

7.根据权利要求2至5的任一所述的插槽总成，其特征在于，该至少一导引块的数量为二个，该导引轨道为一凸肋，该凸肋能够移动地位于该二导引块之间。

8.根据权利要求1所述的插槽总成，其特征在于，更包括二个导引件，各该导引件枢设于该基体及该散热件，该二导引件、该基体及该散热件形成四连杆结构，该推抵件固定于该散热件，各该导引件枢设于该散热件的位置至该开口端的距离小于或等于各该导引件枢设于该基体的位置至该开口端的距离。