[实用新型]热学腔室

说明书

技术领域

本实用新型的实施方式一般涉及一种用于大面积基板的基板处理系统。更具体地，本文所述实施方式涉及一种其中可暂时存储基板的掩模预热腔室。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light Emitting Diodes；OLED)用于制造用来显示信息的电视机屏、计算机监视器、移动电话等。典型OLED可包括位于两个电极之间的有机材料层，它们全都以形成具有可独立通电的像素的矩阵显示面板的方式来沉积在基板上。OLED一般放在两个玻璃面板之间，并且玻璃面板边缘被密封以将OLED包封在其中。

随着市场对平板技术的接受，对较大的显示器、增加的生产量和较低制造成本的需要促使设备的制造商开发使较大大小玻璃基板适应平板显示器制造机器的新的系统。另外，高效率且低成本高效益地集成各种系统部件以进行复杂处理操作的能力降低拥有成本。然而，在采用这种大型设备处理大面积基板的情况下，将系统的各种部件集成进来变为耗时且困难的。另外，存在基板排队时间不同步以使得可能需要将一或多个基板暂时存储起来的情况。

因此，本领域中需要用于制造OLED显示装置的改进设备。

实用新型内容

在一个实施方式中，提供热学腔室。所述热学腔室包括腔室主体，所述腔室主体限定大小适于接收一或多个掩模和/或基板在其中的空间，并且盖构件可以滑动地耦接到所述空间外的所述腔室主体。加热构件和测温设备可耦接到所述腔室主体。加热构件可以设置在所述空间内，并且测温设备可耦接到腔室主体。平台可以与盖构件相对而设置在所述空间内，并且所述平台可以移动地耦接到腔室主体。

在另一实施方式中，提供热学腔室。所述热学腔室包括：腔室主体，所述腔室主体限空间；以及盖构件，所述盖构件耦接到所述空间外的所述腔室主体。反射加热构件可耦接到所述空间内的所述腔室主体，并且热电偶可耦接到所述腔室主体。平台可耦接到所述腔室主体，并且可移动地设置在所述空间内。

在又一实施方式中，提供热学腔室。所述热学腔室包括：腔室主体，所述腔室主体限空间；以及盖组件，所述盖组件滑动地耦接到所述腔室主体。狭缝阀可耦接到所述腔室主体，位于所述盖组件下方，并且热电偶可耦接到所述腔室主体，位于所述狭缝阀下方。多个反射式加热器可耦接到所述空间内的所述腔室主体。平台也可移动地设置在所述空间内，并且对准设备可耦接到所述平台并从所述平台延伸。所述对准设备可以包括轴承构件。

一种热学腔室包括：

腔室主体，所述腔室主体限定大小适于接收一或多个掩模和/或基板在其中的空间；

盖构件，所述盖构件可滑动地耦接到所述空间外的所述腔室主体；

加热构件，所述加热构件耦接到所述空间内的所述腔室主体；

测温设备，所述测温设备耦接到所述腔室主体；以及

平台，所述平台与所述盖构件相对地设置在所述空间内，其中所述平台可移动地耦接到所述腔室主体。

在所述热学腔室中，所述平台耦接到第一直线致动器，所述第一直线致动器被配置成平移所述平台穿过所述空间。

在所述热学腔室中，所述直线致动器是滚珠螺杆装置。

在所述热学腔室中，所述直线致动器被配置成使所述平台沿第一方向平移。

在所述热学腔室中，跟踪构件被配置成使所述盖构件沿垂直于所述第一方向的第二方向以可滑动的方式平移。

在所述热学腔室中，跟踪构件被配置成使所述盖构件相对于所述腔室主体以可滑动的方式平移。

在所述热学腔室中，所述跟踪构件耦接到所述腔室主体。

在所述热学腔室中，一或多个第二致动器被配置成使所述盖构件与所述腔室主体解耦。

在所述热学腔室中，所述加热构件是反射式加热器。

在所述热学腔室中，所述测温设备是热电偶。

所述热学腔室进一步包括：

泵送设备，所述泵送设备被配置成在所述空间中产生真空。

在所述热学腔室中，所述泵送设备是低温泵。

一种热学腔室包括：

腔室主体，所述腔室主体限定大小适于接收一或多个掩模和/或基板在其中的空间；

盖构件，所述盖构件耦接到所述空间外的所述腔室主体；

反射加热构件，所述反射加热构件耦接到所述空间内的所述腔室主体；

热电偶，所述热电偶耦接到所述腔室主体；以及

平台，所述平台耦接到所述腔室主体，并且可移动地设置在所述空间内。

所述热学腔室进一步包括：