[实用新型]一种双室磁控蒸发真空设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜设备技术领域，特别是涉及一种双室磁控蒸发真空设备。

背景技术

现有的镀膜设备在日常使用过程中从使用者反馈的信息看主要存在如下几个问题：

1、在基片传递过程中由于两室间距大(室中心距1100mm)传递距离太长，基片托下坠最大达5mm，造成与样品台交接时困难重重，由于设备运行是在全封闭真空环境下进行所以操作起来相当麻烦，严重影响镀膜工作的顺利进行。

2、由于基片交接不稳定加之定位部件间的间隙配合，导致基片托在放入样品台时其传递水平面经常会出现偏差，镀膜工艺难以得到保证，膜层均匀度受到一定影响。

3、该设备机械传递装置安装在磁控室一侧，属于常规的单向传递方式，按现在的传递间距其传递杆相应很长(约1250mm)，除占地面积大且操作起来很不方便。

实用新型内容

针对上述问题中存在的不足之处，本实用新型提供一种双室磁控蒸发真空设备，使其在性能有了很大改善，不仅镀膜质量得到了提高，其结构更加合理、操作更加便利，并且成本低廉、使用维护方便的同时也大大减少了占地面积。

为了解决上述问题，本实用新型提供一种双室磁控蒸发真空设备，其中，包括真空室、蒸发室和磁控室，所述蒸发室设置在所述真空室内左侧，所述磁控室设置在所述真空室内右侧，所述蒸发室和所述磁控室之间通过传递机构连接，所述传递机构包括传递轨道、磁力短轴和传递小车，所述传递小车设置在所述传递轨道上，所述传递轨道上端设置有所述磁力短轴，所述磁力短轴包括第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴，所述第一磁力短轴、所述第二磁力短轴、所述第三磁力短轴、所述第四磁力短轴和所述第五磁力短轴成并列结构设置。

优选的，所述蒸发室内设置有蒸发组件。

优选的，所述磁控室内设置有磁控靶。

优选的，所述传递轨道为固定轨道结构，所述传递轨道包括直线导轨和齿条。

优选的，所述真空室上设置有PLC智能电控系统，所述PLC智能电控系统分别与所述磁控靶、所述蒸发组件、所述传递小车连接。

与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

本实用新型在性能有了很大改善，不仅镀膜质量得到了提高，其结构更加合理、操作更加便利，由于基片靠固定的轨道运行，其交接平稳可靠，定位精确基本无偏差，避免了原来因单向传递交接存在的偏差过大、基片交接困难等问题，而且镀膜工艺容易控制，膜层均匀度大大提高，磁耦合传递系统整体安装在工作台面，其结构简单、成本低廉、使用维护方便同时其大大减少了占地面积。

附图说明

图1是本实用新型的实施例结构示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合附图与实例对本实用新型作进一步详细说明，但所举实例不作为对本实用新型的限定。

如图1所示，本实用新型的实施例包括真空室1、蒸发室2和磁控室3，蒸发室2设置在真空室1内左侧，磁控室3设置在真空室1内右侧，蒸发室2和磁控室3之间通过传递机构4连接，传递机构4包括传递轨道6、磁力短轴5和传递小车7，传递小车7设置在传递轨道6上，传递轨道6上端设置有磁力短轴5，磁力短轴5包括第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴，第一磁力短轴、第二磁力短轴、第三磁力短轴、第四磁力短轴和第五磁力短轴成并列结构设置。

蒸发室2内设置有蒸发组件。磁控室3内设置有磁控靶。传递轨道6为固定轨道结构，传递轨道6包括直线导轨和齿条。真空室1上设置有PLC智能电控系统，PLC智能电控系统分别与磁控靶、蒸发组件、传递小车7连接。

本实施例中，设备由原来的单向机械传递方式改为磁耦合往复传递方式，在两室有效传递区域增设固传递轨道6，传递轨道6上放置可以交接基片的传递小车7，基片通过传递小车7实现两室间基片与样品台的往复交接工作，传递小车7动力靠5个磁耦合短轴输入，通过齿轮与齿条及带轮组件等组成整个传递系统，其传递小车7的动力执行部件全部安装在工作台上，操作十分方便。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。