[实用新型]一种深紫外光学系统共焦对准装置有效

专利信息
申请号: 201621385190.4 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN206363009U 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 卢增雄;齐月静;王宇;苏佳妮;齐威;杨光华;周翊;孟庆宾 申请(专利权)人: 中国科学院光电研究院
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G02B27/09;G01M11/02
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司11619 代理人: 郎志涛
地址: 100094*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 深紫 光学系统 对准 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及光学装调技术领域,具体涉及一种深紫外光学系统的共焦对准装置。

背景技术

深紫外光学系统,如半导体微光刻用的投影光学系统、半导体工业中所使用的观察系统、微纳结构制造过程中所使用的紫外光学系统等等,通常具有极小的波像差,如投影光刻物镜的系统波像差在几个纳米量级。因此,在深紫外光学系统加工、集成及工作的各个环节都要进行波像差检测。在基于双通道夏克‐哈特曼法检测深紫外光学系统波像差中,深紫外光学系统与球面反射镜的共焦对准精度是影响波像差测量结果的一个关键因素,因此,深紫外光学系统与球面反射镜的共焦对准是实现深紫外光学系统波像差高精度测量的重要保证。

普通商用菲索干涉仪(如Zygo干涉仪)检测光学系统波像差时,通常采用多自由度手动位移台并借助辅助工具进行共焦对准调整,但将该方法应用到深紫外光学系统光学系统的共焦对准中,在调整上有较大难度。文献《Confocal position alignment in high precision wavefront error metrology using Shack‐Hartmann wavefront sensor》(Proc.SPIE,2016,9780:97801N)采用计算机辅助装调法进行深紫外光刻物镜和球面反射镜的共焦对准调整,需要采用多次迭代过程,且残差较大。

实用新型内容

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的。

本实用新型公开一种深紫外光学系统共焦对准装置,其特征在于,该装置包括小孔板(1)、准直物镜(2)、分束板(3)、共轭成像物镜(4)、深紫外光学系统(5)、深紫外光学系统会聚光束(501)、球面反射镜(6)、球面反射镜会聚光束(601)和夏克‐哈特曼波前传感器(7);其中,小孔板(1)衍射产生球面波经准直物镜(2)后得到平行光束,经分束板(3)反射后被共轭成像物镜聚焦到深紫外光学系统(5)的物面上,经深紫外光学系统后得到深紫外光学系统会聚光束(501),深紫外光学系统会聚光束(501)经球面反射镜(6)反射后得到球面反射镜会聚光束(601),球面反射镜会聚光束(601)进入深紫外光学系统(5)和共轭成像物镜(4)后再一次成为平行光束,该平行光束透过分束板(3)后进入夏克‐哈特曼波前传感器(7),在夏克‐哈特曼波前传感器探测器上形成光斑阵列,通过质心提取、波前重建后得到波像差信息。

优选地,所述共轭成像物镜(4)将所述深紫外光学系统(5)的出瞳成像到所述夏克‐哈特曼波前传感器(7)的微透镜阵列所在平面上。

优选地,所述深紫外光学系统会聚光束(501)和所述球面反射镜会聚光束(601)之间的位置关系包括理想共焦状态、偏移失调状态、倾斜失调状态和离焦失调状态。

与现有技术相比,本实用新型基于该装置的特定结构,进行深紫外光学系统与球面反射镜的共焦对准调整,利用共焦对准模型采集样本,实现了快速、高精度的共焦对准。

附图说明

通过阅读下文优选实施方式的详细描述,各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的,而并不认为是对本实用新型的限制。而且在整个附图中,用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中:

图1为根据本实用新型的深紫外光学系统共焦对准装置的示意图;

图2为深紫外光学系统处于理想共焦对准的状态;

图3为深紫外光学系统在X方向存在偏移失调量ΔX时的状态;

图4为深紫外光学系统绕Y轴方向存在倾斜失调量ΔθY时的状态;

图5为深紫外光学系统沿Z轴方向存在离焦失调量ΔZ时的状态;

图6为根据本实用新型的深紫外光学系统共焦对准方法的流程图;

图7为光学设计软件中建立的深紫外光学系统和球面反射镜的共焦对准模型图;

图8为深紫外光刻物镜和球面反射镜处于理想共焦状态时系统波像差的Zernike多项式系数;

图9为深紫外光刻物镜和球面反射镜处于非理想共焦状态时系统波像差的Zernike多项式系数;

图10为经过共焦对准调整后系统波像差的Zernike多项式系数;

图11为共焦对准公差的Zernike多项式系数。

附图标记说明

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