[实用新型]一种双台面直写曝光机有效
| 申请号： | 201621386254.2 | 申请日： | 2016-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN206292532U | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 蔡志国;王友车;胥涛朋;朱亮 | 申请（专利权）人： | 苏州微影激光技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙)44309 | 代理人： | 廉红果 |
| 地址： | 215009 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 台面 曝光 | ||
【权利要求书】：
1.一种双台面直写曝光机，其特征在于，包括扫描平台、用于设置曝光机构的曝光横梁、用于设置对准机构的对准横梁，所述曝光横梁、对准横梁从左向右依次设置，所述扫描平台设置在位于曝光横梁和对准横梁下方的运动轨道上，所述曝光横梁用于设置曝光机构的固定面与对准横梁用于设置对准机构的固定面在扫描方向上相对设置。
2.根据权利要求1所述的一种双台面直写曝光机，其特征在于：所述曝光横梁相对于对准横梁反向布局设置。
3.根据权利要求1或2所述的一种双台面直写曝光机，其特征在于：所述曝光机构和对准机构错位设置。
4.根据权利要求3所述的一种双台面直写曝光机，其特征在于：所述曝光横梁、对准横梁均通过固定件设置在基面上方，所述运动轨道设置在基面上方并且位于固定件之间。
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