[实用新型]带有自动保护装置的高压清洗机有效
申请号: | 201621392217.2 | 申请日: | 2016-12-19 |
公开(公告)号: | CN206366534U | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | 宁宝麟 | 申请(专利权)人: | 天津市杰冠医疗科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司12107 | 代理人: | 李文洋 |
地址: | 300300 天津市滨*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带有 自动 保护装置 高压 清洗 | ||
技术领域
本实用新型属于义齿加工技术领域,尤其涉及一种带有自动保护装置的高压清洗机。
背景技术
高压清洗机在齿科加工厂使用非常广泛,烤瓷牙op前金属冠的清洗,石膏模型的清洗,烤瓷牙抛光后的清洗,金属支架抛光后的清洗等,由于使用的工序合部门多,往往会有清洗水缺少的时候,此时会造成高压清洗机干烧的情况,会造成设备的损坏和安全隐患的发生。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于克服上述技术的不足,而提供一种带有自动保护装置的高压清洗机,自动加水,防止高压清洗机干烧。
本实用新型为实现上述目的,采用以下技术方案:一种带有自动保护装置的高压清洗机,其特征在于:包括箱体,所述箱体带有内胆,所述内胆的底部设有两个带有通孔的支撑架,所述支撑架上装有牙齿固定架,所述内胆的侧面带有清洗喷嘴,在所述清洗喷嘴的上方设有液位计,所述液位计与设置在箱体底部的补水泵信号连接,所述补水泵通过设置在箱体内部的过滤器与所述内胆连通。本装置更改了传统义齿放置方式以及整体结构,将箱体设置两层结构,内胆用于装水,内胆和箱体壁之间可以装补水泵以及过滤器,这样结构更加紧凑,义齿放置在牙齿固定架中,再放入到支撑架上,通过环周的喷头进行清洗,清洗效率高,便于取出。
优选地,所述箱体的外侧带有电控箱。通过电控箱可以设置水温、水位、喷头压力等情况。
优选地,所述箱体的上部铰接有箱门。盖住箱体,将箱体密封,防止工作时水从箱体内冒出。
优选地,所述清洗喷嘴设置在内胆的四周。清洗无死角。
优选地,所述内胆的底部并联至少两根排水管,排水管上装有排水阀。
本实用新型的有益效果是:相对于现有技术,本装置为在水容器中安装一个液位计,当水低于设定值时,声、光报警,提示操作人员加水。避免了设备不必要的损坏和安全事故的发生。同时本装置更改了传统义齿放置方式以及整体结构,将箱体设置两层结构,内胆用于装水,内胆和箱体壁之间可以装补水泵以及过滤器,这样结构更加紧凑,义齿放置在牙齿固定架中,再放入到支撑架上,通过环周的喷头进行清洗,清洗效率高,便于取出。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
图2是本实用新型的侧视图。
具体实施方式
下面结合附图及较佳实施例详细说明本实用新型的具体实施方式。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
如图1和图2所示,一种带有自动保护装置的高压清洗机,包括箱体1,所述箱体带有内胆2,所述内胆的底部设有两个带有通孔的支撑架3,所述支撑架上装有牙齿固定架4,所述内胆的侧面带有清洗喷嘴5,在所述清洗喷嘴的上方设有液位计6,所述液位计与设置在箱体底部的补水泵7信号连接,所述补水泵通过设置在箱体内部的过滤器8与所述内胆连通。本装置更改了传统义齿放置方式以及整体结构,将箱体设置两层结构,内胆用于装水,内胆和箱体壁之间可以装补水泵以及过滤器,这样结构更加紧凑,义齿放置在牙齿固定架中,再放入到支撑架上,通过环周的喷头进行清洗,清洗效率高,便于取出。
所述箱体的外侧带有电控箱9。通过电控箱可以设置水温、水位、喷头压力等情况。所述箱体的上部铰接有箱门10。盖住箱体,将箱体密封,防止工作时水从箱体内冒出。
所述清洗喷嘴设置在内胆的四周。清洗无死角。所述内胆的底部并联至少两根排水管11,排水管上装有排水阀12。
本装置为在水容器中安装一个液位计,当水低于设定值时,声、光报警,提示操作人员加水。避免了设备不必要的损坏和安全事故的发生。同时本装置更改了传统义齿放置方式以及整体结构,将箱体设置两层结构,内胆用于装水,内胆和箱体壁之间可以装补水泵以及过滤器,这样结构更加紧凑,义齿放置在牙齿固定架中,再放入到支撑架上,通过环周的喷头进行清洗,清洗效率高,便于取出。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
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