[实用新型]一种闭式过滤装置有效

专利信息
申请号: 201621392663.3 申请日: 2016-12-19
公开(公告)号: CN206285595U 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 董永侠;向彬;李君 申请(专利权)人: 内蒙古佳瑞米精细化工有限公司
主分类号: B01D35/30 分类号: B01D35/30;B01D35/31
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 016000 内蒙古*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 一种 过滤 装置
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及精细化工生产技术领域,具体涉及一种闭式过滤装置,该装置尤其适用于严禁空气、水分介入,需要密闭操作,滤液粘度大,滤液含有镁屑的格氏反应的过滤过程。

背景技术

现阶段,草铵膦生产过程多采用格氏反应路线,格氏液的后处理过滤采用Y型过滤器或管道式过滤器,过滤周期长,容易造成管路堵塞,拆装过程存在安全隐患,不利于工业化稳定生产。因此缩短过滤周期,连续稳定生产,一直是格氏后处理过程中亟待解决的问题。

实用新型内容

为解决现有技术中存在的上述问题,本实用新型提供一种闭式过滤装置,该装置能够在避免管路堵塞的同时,缩短过滤周期,安装方便,适用于格氏液后处理过滤工段操作。

为了实现上述目的,本实用新型所采用的技术方案如下:

一种闭式过滤装置,该装置为白钢材质,包括外罩主体和外罩主体内的半球状主体,所述外罩主体的下端与半球状主体的环状凸沿通过螺栓紧固连接,所述半球状主体的球面上均匀分布若干圆孔;其中:所述外罩主体上设有上出料口,该上出料口与过滤液储罐进料口相连接;所述半球状主体的底部设有下进料口,所述下进料口连接反应釜出料口。

所述半球状主体的最大圆周处设置环状凸沿。

所述外罩主体的上出料口连接上出料口法兰,所述过滤液储罐进料口连接法兰,上出料口法兰与过滤液储罐进料口上法兰通过螺栓紧固。

所述半球状主体的下进料口连接下进料口法兰,所述反应釜出料口上连接法兰,下进料口法兰与反应釜出料口上的法兰通过螺栓紧固。

所述半球状主体上的圆孔数量为200-1000个,圆孔直径范围为2-5mm。

所述上出料口直径范围为25-65mm,下进料口直径范围为50-65mm。

所述闭式过滤装置中外罩主体的宽度为100-300mm,外罩主体的高度为100-300mm,外罩主体的壁厚范围为5-10mm。

所述半球状主体的半径范围为100-300mm,半球状主体的壁厚范围2-5mm。

本实用新型装置安装方式:通过法兰连接将闭式过滤装置下进料口法兰对接安装在釜出料口法兰,上出料口对接过滤液储罐法兰。

与现有技术相比,本实用新型具有以下有益效果:

1、安装方式简单,容易操作。

2、过滤面积大,不容易造成物料聚集堵塞,缩短了过滤周期。

3、密闭过滤,隔绝空气和水分,保证了格氏液品质。

附图说明

图1为实用新型结构示意图。

图2为外罩主体结构示意图。

图3为半球状主体结构示意图。

图4为半球状主体俯视图。

图中:1-上出料口法兰;2-外罩主体;3-半球状主体;4-圆孔;5-下进料口法兰;6-螺栓。

具体实施方式

以下结合附图详述本实用新型。

如图1-4所示,本实用新型闭式过滤装置包括外罩主体2和外罩主体内的半球状主体3,半球状主体3的最大圆周处设置环状凸沿,所述外罩主体2的下端与半球状主体3的环状凸沿通过螺栓6紧固连接,所述半球状主体3的球面上均匀分布若干圆孔4;其中:所述外罩主体2上设有上出料口,该上出料口与过滤液储罐进料口相连接;所述半球状主体3的底部设有下进料口,所述下进料口连接反应釜出料口。

所述外罩主体的上出料口连接上出料口法兰1,所述过滤液储罐进料口连接法兰,上出料口法兰1与过滤液储罐进料口上法兰通过螺栓6紧固。

所述半球状主体的下进料口连接下进料口法兰5,所述反应釜出料口上连接法兰,下进料口法兰5与反应釜出料口上的法兰通过螺栓紧固。

所述半球状主体上的圆孔4数量为200-1000个,圆孔直径范围为2-5mm。

所述上出料口直径范围为25-65mm,下进料口直径范围为50-65mm。

所述闭式过滤装置中外罩主体的宽度为100-300mm,外罩主体的高度为100-300mm,外罩主体的壁厚范围为5-10mm。

所述半球状主体的半径范围为100-300mm,半球状主体的壁厚范围2-5mm。

本实用新型装置使用过程如下:

将闭式过滤装置外罩主体与半球状主体对接,通过M16螺栓紧固。将下进料口法兰对接安装在反应釜出料口法兰上,通过M16螺栓紧固,上出料口法兰对接过滤液储罐进料口法兰,通过M16螺栓紧固。将反应釜通氮气,维持压力0.2MPa,DCS开启格氏反应釜出料阀,格氏液通过闭式过滤装置过滤后进入滤液储罐。

本实用新型不局限于本实施例,任何在本实用新型披露的技术范围内的等同构思或者改变,均列为本实用新型的保护范围。

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