[实用新型]干式废气处理装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及废气处理设备领域，更具体地说，涉及一种干式废气处理装置。

背景技术

在半导体行业制造装置排放的废气中，同时如含有酸性气体(如：氯化氢HCL)和金属氢化气体(如：氢氢化磷PH₃)。(因半导体行业制造装置加工工艺的不同，还会出现如碱性气体(氨气NH₃)和氟化类气体(氟化氢HF)的情况。因为这些酸性气体和金属氢化气体为剧毒类，使得这些废气在制程装置排出后，在输送或排放至大气前，需要将这些有害气体去除到安全值或者达到环保排放标准。因此，以往的处理这些气体的方式中会采用干式化学吸附方式，使用对应气体化学药剂进行化学反应吸附，如酸性气体使用碱性药剂吸附，来除去这样的有害气体。

现有干式化学反应吸附处理装置存在不能同时处理含有酸性气体和金属氢化气体。废气气流在装置内部分流不均，废气气流无法完全覆盖药剂区域，药剂只有部分与废气反应，大量药剂未能接触废气产生化学反应，处理率达不到要求。

综上所述，如何有效地解决干式废气处理装置中气流分布不均、处理效果较差的问题，是目前本领域技术人员急需解决的问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种干式废气处理装置，以解决干式废气处理装置中气流分布不均、处理效果较差的问题。

为了达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种干式废气处理装置，包括底座和设置于所述底座上的药剂罐，所述药剂罐的底部设置有用于气流均匀分布的均流件，所述底座上设置有进气口，所述药剂罐设置有出气口。

优选地，在上述干式废气处理装置中，所述底座与所述药剂罐间可拆卸的固定连接。

优选地，在上述干式废气处理装置中，所述底座与所述药剂罐间设置有经卡箍卡紧的密封圈。

优选地，在上述干式废气处理装置中，所述底座与所述药剂罐间经连接件连接。

优选地，在上述干式废气处理装置中，所述药剂罐的个数为多个，多个所述药剂罐在所述底座上沿竖直方向依次设置，所述药剂罐间经连接件可拆卸的固定连接。

优选地，在上述干式废气处理装置中，所述均流件包括均流板，所述均流板上设置有均匀分布的通气孔。

优选地，在上述干式废气处理装置中，所述均流件包括多个设有重叠部的均流叶片，多个所述均流叶片沿周向均匀布置。

本实用新型提供的干式废气处理装置，包括底座和设置于底座上的药剂罐，药剂罐的底部设置有用于气流均匀分布的均流件，底座上设置有进气口，药剂罐设置有出气口。应用本实用新型提供的干式废气处理装置时，通过均流件对进气口进入的废气进行均流，使得废气沿均流件可均匀进入至药剂罐内，实现废气气流在药剂罐中的均匀分布。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的干式废气处理装置的结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的干式废气处理装置的爆炸结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的干式废气处理装置的剖面图；

图4为本实用新型实施例提供的均流叶片的结构示意图；

图5为本实用新型实施例提供的均流叶片的主视结构示意图；

图6为图4中A-A向剖视图。

附图中标记如下：

出气口1、药剂罐2、连接件3、进气口4、均流叶片5。

具体实施方式

本实用新型实施例公开了一种干式废气处理装置，以解决干式废气处理装置中气流分布不均、处理效果较差的问题。

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。