[实用新型]一种板式PECVD镀膜异常的补救装置

权利要求书

1.一种板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，包括底部固定板(1)，底部固定板(1)连接至少一个合页(2)，每个合页(2)连接一个石墨片(3)。

2.如权利要求1所述的板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，所述的底部固定板(1)固定于PECVD机台。

3.如权利要求1所述的板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，所述的底部固定板(1)的形状为长条形，安装方向平行于PECVD机台的等离子体发射源。

4.如权利要求1所述的板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，所述的底部固定板(1)的长度大于等离子体发射源的离子流出口，并且小于反应腔室的长度。

5.如权利要求1所述的板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，所述的合页(2)能够180度翻转，合页(2)的两侧分别连接底部固定板(1)和石墨片(3)。

6.如权利要求1所述的板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，通过合页(2)的翻转，能够调节石墨片处于对等离子体发射源的“遮挡”或“非遮挡”状态。

7.如权利要求1所述的板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，所述的石墨片(3)为扁平的正方形，面积大于放置硅片的石墨架上的单个槽位。

8.如权利要求1所述的板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，所述的底部固定板(1)和合页(2)之间以及合页(2)与石墨片(3)之间采用铆钉相连接。

9.如权利要求1所述的板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，所述合页(2)和石墨片(3)的数量均等于额定单次工艺流程所能同时承担的硅片数量。