[实用新型]低辐射双银镀膜玻璃有效
| 申请号： | 201621435417.1 | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN206345795U | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | 邓君;崔伏球;汪涛 | 申请（专利权）人： | 重庆物华天宝镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 重庆市前沿专利事务所(普通合伙)50211 | 代理人： | 郭云 |
| 地址： | 402560 重庆市*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 辐射 镀膜 玻璃 | ||
【权利要求书】：
1.一种低辐射双银镀膜玻璃，包括浮法玻璃基片，其特征在于：在所述浮法玻璃基片的上表面由下到上依次镀有第一Si3N4层、第一Zr-AZO层、第一Ag层，第一NiCr层、第二Zr-AZO层、TiO2层、第三Zr-AZO层、第二Ag层、第二NiCr层、第四Zr-AZO层、第二Si3N4层、C层。
2.根据权利要求1所述低辐射双银镀膜玻璃，其特征在于：所述第一Si3N4层的厚度为10-35nm，所述第二Si3N4层的厚度为20-40nm。
3.根据权利要求2所述低辐射双银镀膜玻璃，其特征在于：所述第一Zr-AZO层的厚度为5-15nm，第二Zr-AZO层的厚度为5-15nm，第三Zr-AZO层的厚度为5-20nm，第四Zr-AZO层的厚度为5-15nm。
4.根据权利要求3所述低辐射双银镀膜玻璃，其特征在于：所述第一NiCr层和第二NiCr层的厚度均为2-8nm。
5.根据权利要求4所述低辐射双银镀膜玻璃，其特征在于：所述第一Ag层和第二Ag层的厚度均为2-6nm。
6.根据权利要求5所述低辐射双银镀膜玻璃，其特征在于：所述C层的厚度为5-20nm。
7.根据权利要求6所述低辐射双银镀膜玻璃，其特征在于：所述TiO2层的厚度为20-40nm。
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