[实用新型]一种研磨清洗头

说明书

技术领域

本实用新型属于清洗设备技术领域，涉及一种清洗头，具体说涉及一种用于对物体表面进行研磨清洗的研磨清洗头。

背景技术

在玻璃表面或其他平面物体表面或球形物体表面上粘有污染物时，一般都需要进行清洗，如果所粘的物质具有一定的粘附性时，还需要进行研磨清洗，才能清洗干净。

在申请日为2015年08月24日，申请号为201520641541.2的中国实用新型公开了一种研磨清洗装置 ,包括用于放置玻璃物料的平台组件，还包括设置于所述平台组件上方的研磨机构，所述研磨机构包括研磨头组件和用于驱动所述研磨头组件移动至贴靠所述玻璃物料上表面的研磨头组件驱动机构，所述研磨头组件包括研磨头和用于驱动所述研磨头转动的转动驱动部件，所述转动驱动部件的转轴垂直于所述玻璃物料的上表面；上述的研磨头组件用于研磨，其研磨头被转动驱动部件驱动，用转动的方式进行研磨，该转轴竖直，研磨头的底部接触玻璃物料。由于采用了转动摩擦的方式对玻璃物料进行研磨，结构更简单，容易调试，实现了提供一种调试与操作方便的研磨清洗装置。由于上述转轴竖直，所以研磨范围较小，特别是对于球面物体清洗效果不理想。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中研磨头研磨范围小，研磨效果不理想的技术问题，提供一种研磨范围大，研磨清洗效果好，适用于各种研磨清洗机的研磨清洗头。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种研磨清洗头，包括壳体和底板，壳体与底板由螺丝固定，在壳体内设置上轴承套，在底板下方设置下轴承套，在上轴承套上设置轴承Ⅰ和轴承Ⅱ，在下轴承套上设置轴承Ⅲ和轴承Ⅳ，在上轴承套内设置上主轴，在下轴承套内设置下主轴，在上主轴的下方设置齿轮Ⅰ，在下主轴的上方设置齿轮Ⅱ，所述的齿轮Ⅰ与齿轮Ⅱ齿合，在下主轴的下方设置同步带轮Ⅰ，在上主轴的上方设置泡沫研磨头。

上述的一种研磨清洗头，所述的齿轮Ⅰ的表面齿轮倾斜角度设置为0度至45度，所述的齿轮Ⅱ的表面齿轮倾斜角度设置为0度至45度，所述的上主轴的倾斜角度为0度至45度。

上述的一种研磨清洗头，所述的下主轴同步带轮Ⅰ的下方设置同步带轮Ⅱ。

上述的一种研磨清洗头，所述的泡沫研磨头与上主轴之间设置紧固件。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：1、可以研磨、清洗各种物体的表面，清洗效率高，清洗效果好；2、对于球面物体的表面，清洗时，不会出现死角，清洗范围广；3、泡沫研磨头更换方便；4、可以与多个研磨清洗头配套使用，提高生产效率。

附图说明

图1是本实用新型实施例1主视图。

图2是本实用新型实施例1俯视图。

图3是图2中A-A向剖视图。

图4是图3中齿轮结构放大示意图。

图5是本实用新型实施例2主视图。

图6是本实用新型实施例2俯视图。

图7是图6中B-B向剖视图。

图8是图7中齿轮结构放大示意图。

图9是本实用新型实施例2分解结构示意图。

附图标号说明：1-壳体、2-底板、3-上轴承套、31-轴承Ⅰ、32-轴承Ⅱ、33-上主轴、34-齿轮Ⅰ、4-下轴承套、41-轴承Ⅲ、42-轴承Ⅳ、43-下主轴、44-齿轮Ⅱ、5-同步带轮Ⅰ、6-泡沫研磨头、7-同步带轮Ⅱ、8-紧固件。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

实施例1，如图1至图4所示的一种研磨清洗头，包括壳体1和底板2，壳体1与底板2由螺丝固定，在壳体1内设置上轴承套3，在底板2下方设置下轴承套4，在上轴承套3上设置轴承Ⅰ31和轴承Ⅱ32，在下轴承套4上设置轴承Ⅲ41和轴承Ⅳ42；在上轴承套3内设置上主轴33，这样上主轴33就可以固定在轴承Ⅰ31和轴承Ⅱ32上；在下轴承套4内设置下主轴43，这样下主轴43就可以固定在轴承Ⅲ41和轴承Ⅳ42上；在上主轴33的下方设置齿轮Ⅰ34，在下主轴43的上方设置齿轮Ⅱ44，齿轮Ⅰ34与齿轮Ⅱ44齿合，在下主轴43的下方设置同步带轮Ⅰ5，同步带轮Ⅰ5由电机驱动，这样，下主轴43在同步带轮Ⅰ5驱动下，驱动齿轮Ⅱ44转动，齿轮Ⅱ44带动齿轮Ⅰ34转动，这样就可以带动上主轴33的上方设置的泡沫研磨头6的转动，使泡沫研磨头6对物体表面进行研磨清洗。