[实用新型]一种掩模涂胶机的供料装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及供料装置技术领域，尤其涉及一种掩模涂胶机的供料装置。

背景技术

光刻胶或者抗蚀剂(Photo Resist)由感光树脂，增感剂和溶剂三种主要成分组成。感光树脂在经过激光或者电子束曝光后会发生光固化反应，使得曝光区域内的树脂物理性能如溶解性，亲合性等会发生明显变化。电子束光刻要求抗蚀剂具有灵敏度高，对比度强以及抗干法刻蚀选择性等。最早使用的电子束抗蚀剂是聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate，PMMA)，这种光刻胶具有较强的稳定性，优异的分辨率和成本低等优点。PMMA虽然具有较高的分辨率，附着能力强但是灵敏度较差。化学放大型胶(chemically amplified resist,CAR)弥补了PMMA感光灵敏度的不足，提高了电子束曝光的效率。CAR中利用化学催化反应来放大辐射的粒子带来的效应，很有效地提高了光胶灵敏度从而提升了产率。

涂胶机的供料装置的出现大大方便了涂胶机的工作，但是目前阶段的涂胶机的供料装置，存在诸多的不足之处，例如，供料过程容易导致胶液附着在其上，导致胶液的损失，供料导向单一，且无法控制一次性供料的多少。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：为了解决供料过程容易导致胶液附着在其上，导致胶液的损失，供料导向单一，且无法控制一次性供料的多少的问题，本实用新型提供一种掩模涂胶机的供料装置来解决上述问题。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种掩模涂胶机的供料装置，包括胶液缓存槽,所述胶液缓存槽的顶部安装有副连接管和主连接管，且主连接管安装在胶液缓存槽的顶部的中间位置处，副连接管围绕主连接管安装，所述胶液缓存槽的一侧安装有胶桶连接头，所述胶液缓存槽的另一侧安装有回流管，所述回流管上安装有水泵，所述胶液缓存槽的内侧壁安装有防粘贴板，所述胶液缓存槽的下方安装有密封槽，所述密封槽的内部安装有储气球，所述储气球的内部安装有气囊，所述气囊内安装有伸缩装置，所述储气球的顶部安装有出气管，所述出气管的顶部安装有出气口，所述储气球的底部安装有充气管，所述充气管上安装有电磁阀。

优选的，所述出气管与充气管均穿过储气球安装在气囊的内部。

优选的，所述出气口穿过密封槽安装在胶液缓存槽内，且出气口的直径与胶液缓存槽的直径完全切合。

优选的，所述主连接管共设置有三个，且三个主连接管并排安装在胶液缓存槽的顶部的直径所在线上。

本实用新型的有益效果是，本实用新型的顶部安装有多个副连接管和主连接管，通过其可以将胶液供给到不同方向，连接方向可遍布多处，大大增大了装置与涂胶机的安装，且在胶液缓存槽的内侧壁上安装有防粘贴板，通过防粘贴板可以防止胶液在输送过程的损失问题，大大降低了资源的浪费，节省了资源，且在胶液缓存槽的下方安装有密封槽，密封槽内安装有由储气球保护的气囊，通过对气囊的压缩，使气体进入到胶液缓存槽内，使其内的胶液被送出，通过气压变换来压缩供料，不会出现料液损失，且根据气体量可以精确控制供给胶液的量。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型结构示意图。

图2是本实用新型胶液缓存槽的俯视图。

图中1、副连接管，2、水泵，3、回流管，4、胶液缓存槽，5、出气口,6、出气管，7、密封槽，8、底座，9、主连接管，10、防粘贴板，11、胶桶连接头，12、储气球，13、气囊，14、伸缩装置，15、充气管，16、电磁阀。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。