[实用新型]一种充分吸收光线的黑色印刷结构有效
申请号: | 201621482987.6 | 申请日: | 2016-12-30 |
公开(公告)号: | CN206485067U | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
发明(设计)人: | 马海东 | 申请(专利权)人: | 深圳市佰瑞兴实业有限公司 |
主分类号: | B41M1/18 | 分类号: | B41M1/18;B41M1/22 |
代理公司: | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙)44248 | 代理人: | 黄晓笛 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 充分 吸收 光线 黑色 印刷 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及涂料印刷领域,特别涉及一种充分吸收光线的黑色印刷结构。
背景技术
常用的黑色应用场景是印刷(喷涂)二次以上或更多,以解诀黑色不够黑的问题,它意在在遮盖底色反射出来的光。以达到看起来够黑的效果。
黑色的形成机理是吸收光线,光照在黑色上面全部被黑色吸收掉,不进行任何反射,在人眼中形成的是看不到来自黑色区域的光线。
通常印刷多遍的工艺只能将底色反射过来的光线屏蔽掉,这样黑色呈现的是黑色表面颜料本身的效果,但目前任何黑色的颜料工艺尚不能把所有的光全部吸收,即做到完全不反射,在表面还是有一部分光线被反射出来。
例如一潭很深的湖水呈现的是黑色,因为水深,光线一直在水中穿透,即便能穿到底被淤泥吸收再也没有能力再反射出来,所以一湖清澈的湖水反而呈现的是黑色,水越干净,看上去越黑,水若不净,则杂质会将光线反射出来,呈现出杂质的颜色了,比如污水,它在表层已经实现了反射。
但现有的技术受制于颜料工艺限制,无法将黑色做的更黑一些。大部分的自然光被黑色表面层吸收,仍有部分光会穿透到下层,但大部分光都停留在表面附近吸收,甚至还有一部分光线会被反射出来,因为现有工艺不能做到黑色完全吸光,简言之就是无法做到绝对黑。
实用新型内容
本实用新型提供一种充分吸收光线的黑色印刷结构,旨在解决现有技术无法将黑色涂层做得足够黑的问题。
本实用新型提供一种充分吸收光线的黑色印刷结构包括承印物、至少两层的黑色印刷层,所述黑色印刷层依次叠加连接,所述承印物连接在黑色印刷层的底部,最底层的一层所述黑色印刷层为高浓度墨色彩的普通黑色层,位于普通黑色层上层的各个黑色印刷层为光线可部分穿透的透明黑色层。
作为本实用新型的进一步改进,该结构包括两层黑色印刷层,所述第一层黑色印刷层为普通黑色层,所述第二层黑色印刷层为透明黑色层,所述透明黑色层、普通黑色层、承印物从上到下依次连接。
作为本实用新型的进一步改进,所述普通黑色层为金属粉或金属粉与黑墨混合的涂层。
作为本实用新型的进一步改进,所述金属粉为银粉。
作为本实用新型的进一步改进,所述普通黑色层采用彩皇911C涂料。
作为本实用新型的进一步改进,所述透明黑色层采用精工765涂料。
本实用新型的有益效果是:光线穿透透明黑色层,并能进行部分吸收,余下的部分继续深入到普通黑色层全部吸收,以达到极小的光源反射,从而达到极限的黑色。
附图说明
图1是本实用新型一种充分吸收光线的黑色印刷结构的示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。
一种充分吸收光线的黑色印刷结构包括承印物1、至少两层的黑色印刷层2,黑色印刷层2依次叠加连接,承印物1连接在黑色印刷层2的底部,最底层的一层黑色印刷层2为高浓度墨色彩的普通黑色层3,位于普通黑色层3上层的各个黑色印刷层2为光线可部分穿透的透明黑色层4。
优选的,该结构包括两层黑色印刷层,第一层黑色印刷层2为普通黑色层3,第二层黑色印刷层2为透明黑色层4,透明黑色层4、普通黑色层3、承印物1从上到下依次连接。
其中普通黑色层3为金属粉或金属粉与黑墨混合的涂层。优选的,金属粉为银粉。此涂层材料可以使用与超强光。
普通黑色层3采用彩皇911C涂料。透明黑色层采用精工765涂料。
本应用是将色光理论和生产应用相结合而生产出具有目前色彩领域极限的黑色,可应用于高端黑色产品开发,原理亦可应用于高端汽车黑漆工艺参考。
本应用所表述的工艺依然由印刷(喷涂)两层或三层(要求防透光)构成,旨在对光线的吸收,发生反射的概率大大降低。
如图1所示,第一层采用普通黑色层3,本实施例可引用彩皇911C,因为此种墨色彩表现力,遮盖力,适印性都还不错同,用别的也适可。第二层使用精工765透明黑色层,使用原理是将光引入到第二层内充分吸收,因为此透明黑光线能穿透,并能进行部分吸收,余下的部分继续深入到第一层全部吸收,这就形成一个诱敌深入、合力围歼的战术,以达到极小的光源反射,从而达到极限的黑色。
本实用新型的有益效果为:
1)提高产品档次;
2) 在目前化工水平一定的条件下,优化工艺达到对技术、艺术的极高追求。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本实用新型所作的进一步详细说明,不能认定本实用新型的具体实施只局限于这些说明。对于本实用新型所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本实用新型的保护范围。
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