[实用新型]一种激光刻蚀错位半球与ODR结合的蓝宝石图形衬底有效
| 申请号： | 201621485482.5 | 申请日： | 2016-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN206322726U | 公开（公告）日： | 2017-07-11 |
| 发明（设计）人： | 邵慧慧;徐现刚;刘成成;于果蕾;李沛旭 | 申请（专利权）人： | 山东华光光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20;H01L33/10;H01L33/00;H01L21/268 |
| 代理公司： | 济南金迪知识产权代理有限公司37219 | 代理人： | 王楠 |
| 地址： | 250101 山东省济*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 激光 刻蚀 错位 半球 odr 结合 蓝宝石 图形 衬底 | ||
【权利要求书】：
1.一种激光刻蚀错位半球与ODR结合的蓝宝石图形衬底，其特征在于，衬底表面设有半球状突起，相邻两个半球状突起之间的衬底设有半球状凹槽，半球状突起表面设有反射镜层。
2.根据权利要求1所述的激光刻蚀错位半球与ODR结合的蓝宝石图形衬底，其特征在于，所述的反射镜层的厚度为50nm-1μm。
3.根据权利要求1所述的激光刻蚀错位半球与ODR结合的蓝宝石图形衬底，其特征在于，所述半球状突起的直径为1-5μm，相邻两个半球状突起的间距为1-5μm。
4.根据权利要求1所述的激光刻蚀错位半球与ODR结合的蓝宝石图形衬底，其特征在于，所述的反射镜层为TiO2/SiO2、Au2O/SiO2或Ag2O/SiO2其中的一种。
5.根据权利要求2所述的激光刻蚀错位半球与ODR结合的蓝宝石图形衬底，其特征在于，所述的反射镜层为TiO2/SiO2，为交替生长的SiO2层和TiO2层，交替重复周期为1-5个。
6.根据权利要求5所述的激光刻蚀错位半球与ODR结合的蓝宝石图形衬底，其特征在于，1个交替重复周期中，交替生长的SiO2层厚度为100nm，交替生长的TiO2层厚度为100nm。
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