[实用新型]防紊流降垢结构及光学液体浓度测试装置

权利要求书

1.一种防紊流降垢结构，其特征在于：包括外环柱、内环柱和顶盖，所述顶盖连接外环柱与内环柱；所述外环柱在接近顶盖处开设有进液口；所述外环柱在底部设计有为了安装光学部件的环状平台。

2.根据权利要求1所述的防紊流降垢结构，其特征在于：还包括光第一入射面、第一反射面、第一出射面、第二入射面、第二反射面以及第二出射面，所述第一出射面和第二入射面下部有沉积槽与沉积孔；

所述第一出射面和第二入射面与沉积槽之间连接着速降曲面。

3.根据权利要求1所述的防紊流降垢结构，其特征在于：还包括光学部件限位平台，所述限位平台与内环柱底部形成被测溶液的进入通道。

4.根据权利要求1所述的防紊流降垢结构，其特征在于：所述进液口与外环柱轴向形成夹角而使液体改向，是远离光学通路被测溶液段的，可最大限度隔离紊流；环柱间隙的轴向与底部通路再一次形成夹角使液体再一次改向。

5.根据权利要求1所述的防紊流降垢结构，其特征在于：所述顶盖上开设有小孔和小孔区以及缓冲辐条。

6.根据权利要求1所述的防紊流降垢结构，其特征在于：所述外环柱在柱体中间位置与传感器装置光学部件保持径向密封；所述光学部件侧面有配合密封圈的凹槽，光学部件有圆形腰身，便于圆形的密封圈安放。

7.根据权利要求2所述的防紊流降垢结构，其特征在于：所述第一出射面和第二入射面为高抛光面；所述沉积槽连接在所述速降曲面下部；所述沉积孔连接在沉积槽的底部平面上；所述速降曲面是连接在上述高抛光面和所述沉积槽之间的曲面。

8.根据权利要求5所述的防紊流降垢结构，其特征在于：所述小孔区在顶盖部分的材料厚度比其他区域相对稍薄，形成凹坑，方便气体在此处集结；非小孔区顶盖内侧光洁度较高，便于气泡迅速向小孔区迁移。

9.根据权利要求7所述的防紊流降垢结构，其特征在于：所述速降曲面为光洁度一般的抛光面；所述沉积槽为盆状结构，底部是非抛光平面；所述沉积孔是盲孔。

10.一种光学液体浓度测试装置，其特征在于：包括权利要求1至9任何一项所述的防紊流降垢结构。