[外观设计]用于化学气相沉积的自对中晶片承载系统有效
申请号: | 201630149552.9 | 申请日: | 2016-04-28 |
公开(公告)号: | CN303988327S | 公开(公告)日: | 2016-12-28 |
发明(设计)人: | S·克里士南;A·I·古拉雷;张正宏;E·马塞罗 | 申请(专利权)人: | 维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司 |
主分类号: | 15-99 | 分类号: | 15-99 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 贾金岩 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 化学 沉积 晶片 承载 系统 | ||
【说明书】:
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