[发明专利]光学膜的制造方法以及光学膜

权利要求书

1.一种光学膜的制造方法，上述光学膜的表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构，上述光学膜的制造方法的特征在于，包括：

工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；

工序(2)，在所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有上述凹凸结构的树脂层；以及

工序(3)，使上述树脂层固化，

上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，

上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体和含氟单体，

上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。

2.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述工序(1)是通过将上述下层树脂和上述上层树脂按顺序涂敷于基材膜上来进行的。

3.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述工序(1)是通过将上述下层树脂和上述上层树脂同时涂敷于基材膜上来进行的。

4.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述工序(1)是通过将上述下层树脂涂敷于基材膜上，将上述上层树脂涂敷于上述金属模具上来进行的，

上述工序(2)是通过将涂敷有上述上层树脂的上述金属模具从上述上层树脂侧按压到涂敷于上述基材膜上的上述下层树脂来进行的。

5.根据权利要求2或者4所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述上层树脂是通过喷射方式涂敷的。

6.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

对上述金属模具实施脱模处理。

7.根据权利要求6所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述脱模处理是用硅烷偶联剂进行的表面处理。

8.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述下层树脂的粘度在25℃时大于10cp，不到10000cp。

9.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述上层树脂的粘度在25℃时大于0.1cp，不到100cp。

10.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述含氟单体由紫外线固化。

11.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述上层树脂中的上述含氟单体的浓度大于0重量％，不到20重量％。

12.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述上层树脂中不添加溶剂。

13.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述相溶性单体在分子内具有酰胺键。

14.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述相溶性单体的溶解度参数与上述含氟单体的溶解度参数之差为0(cal/cm³)^1/2以上，4.0(cal/cm³)^1/2以下。

15.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述相溶性单体的溶解度参数与上述下层树脂中的除了上述相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差为0(cal/cm³)^1/2以上，3.0(cal/cm³)^1/2以下。

16.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

上述相溶性单体的溶解度参数与上述上层树脂中的除了上述相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差为0(cal/cm³)^1/2以上，3.0(cal/cm³)^1/2以下。