[发明专利]显示面板、显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201680000802.X 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN108139796B 公开(公告)日: 2020-02-18
发明(设计)人: 孙含嫣;张明辉;朴仁镐;陈维涛;王俊伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G06F3/01 分类号: G06F3/01
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 汪源;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 显示装置 及其 制造 方法
【说明书】:

本申请公开了一种不含液晶层的显示面板,包括衬底基板和衬底基板上的多个像素的阵列,所述多个像素中的每一个包括至少一个子像素。各子像素包括:衬底基板上的电活性层;以及衬底基板上的光透射层,其被构造为由电活性层驱动,以使得所述至少一个子像素中的光透射层的透光率响应于施加至电活性层的电信号的改变而改变,以实现多个灰度等级;其中光透射层以可逆方式可变形。

技术领域

发明涉及一种显示面板、具有所述显示面板的显示装置及其制造方法。

背景技术

液晶显示面板通常具有制造成本高、反射率低、对比度差的不足,并且由于液晶分子的不均匀分布和对齐而具有mura缺陷。今年来,高分辨率、低成本、轻重量、超薄的“无液晶”显示面板的发展已成为显示技术研究的焦点。

发明内容

在一方面,本发明提供了一种不含液晶层的显示面板,包括衬底基板和衬底基板上的多个像素的阵列,所述多个像素中的每一个包括至少一个子像素;其中各子像素包括:衬底基板上的电活性层;以及衬底基板上的光透射层,其被构造为由电活性层驱动,以使得所述至少一个子像素中的光透射层的透光率响应于施加至电活性层的电信号的改变而改变,以实现多个灰度等级;其中光透射层以可逆方式可变形。

可选地,电活性层连接至光透射层,以基于施加至电活性层的电压信号改变光透射层的透光率。

可选地,光透射层的厚度是可变的,以改变光透射层的透光率。

可选地,电活性层被构造为响应于施加至电活性层的电压信号的改变而向光透射层施加力,以改变光透射层的厚度。

可选地,电活性层被构造为响应于施加至电活性层的电压信号在正向上的增大和/或在负向上的减小而向光透射层施加压力,以增大光透射层的厚度,并且响应于施加至电活性层的电压信号在负向上的增大和/或在正向上的减小而向光透射层施加拉力,以减小光透射层的厚度。

可选地,显示面板还包括黑矩阵层;其中各像素包括子像素区和子像素间区;黑矩阵层在子像素间区中;并且光透射层在子像素区中。

可选地,电活性层包括分别与光透射层和黑矩阵层连接的第一部分,其中,光透射层夹在第一部分和黑矩阵层之间。

可选地,电活性层包括分别与光透射层和黑矩阵层连接的第一部分,和分别与光透射层和黑矩阵层连接的第二部分;其中,光透射层夹在第一部分和第二部分之间。

可选地,光透射层与衬底基板间隔开间隙距离,该间隙距离基于光透射层的形变可变。

可选地,显示面板还包括颜色产生层;其中,各像素至少包括分别发出第一颜色的光、第二颜色的光和第三颜色的光的第一子像素、第二子像素和第三子像素;并且颜色产生层包括对应于第一子像素的第一颜色产生块、对应于第二子像素的第二颜色产生块和对应于第三子像素的第三颜色产生块。

可选地,光透射层是颜色产生层;光透射层包括对应于第一子像素的第一光透射块、对应于第二子像素的第二光透射块和对应于第三子像素的第三光透射块;透射通过第一光透射块的光具有第一颜色,透射通过第二光透射块的光具有第二颜色,并且透射通过第三光透射块的光具有第三颜色;并且第一颜色、第二颜色和第三颜色是选自红色、绿色和蓝色的不同颜色。

可选地,电活性层由掺有钛酸钡的聚氨酯制成。

可选地,光透射层由基于聚二甲基硅氧烷(PDMS)的材料制成。

另一方面,本发明提供了一种制造显示面板方法,包括以下步骤:在衬底基板上形成包括多个电活性块的电活性层;以及在衬底基板上形成包括多个光透射块的光透射层,多个光透射块与多个子像素对应。

可选地,所述多个光透射块中的每一个形成为与衬底基板间隔开间隙距离。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680000802.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top