[发明专利]表面被覆切削工具及其制造方法有效
申请号: | 201680001347.5 | 申请日: | 2016-06-07 |
公开(公告)号: | CN107438490B | 公开(公告)日: | 2020-03-13 |
发明(设计)人: | 阿侬萨克·帕索斯;金冈秀明;今村晋也;小野聪 | 申请(专利权)人: | 住友电工硬质合金株式会社 |
主分类号: | B23B27/14 | 分类号: | B23B27/14;C23C16/34 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 王静;高钊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 被覆 切削 工具 及其 制造 方法 | ||
一种表面被覆切削工具,包括基材以及形成在该基材的表面上的覆膜。该覆膜包括第一硬质覆层,该第一硬质覆层包含具有氯化钠型晶体结构的晶粒。该晶粒具有这样的层叠结构,其中由AlxTi1‑x的氮化物或碳氮化物构成的第一层和由AlyTi1‑y的氮化物或碳氮化物构成的第二层交替层叠成一层或多层。该第一层各自具有在0.6以上至小于1的范围内变化的Al的原子比x。该第二层各自具有在0.45以上至小于0.6的范围内变化的Al的原子比y。该原子比x与该原子比y之差的最大值为0.05≤x‑y≤0.5。彼此相邻的该第一层和该第二层的总厚度为5nm至40nm。
技术领域
本发明涉及表面被覆切削工具及其制造方法。
本申请要求于2016年4月14日提交的日本专利申请No.2016-081096的优先权,其全部内容通过引用并入本文。
背景技术
Ikeda等人(非专利文献1)指出:当通过物理气相沉积法(PVD)制造Al原子比超过0.7的“AlTiN”或“AlTiCN”覆膜时,覆膜的层状结构变成纤维锌矿晶体结构,从而导致硬度降低。为了增加“AlTiN”或“AlTiCN”覆膜中的Al含量,Setoyama等人(非专利文献2)通过PVD制造了TiN/AlN超多层膜。然而,据报道,当制造各AlN层的厚度超过3nm的“AlTiN”或“AlTiCN”覆膜时,层状结构变成纤维锌矿晶体结构,从而导致硬度降低。已经进行了例如通过诸如利用化学气相沉积(CVD)增加Al的原子比之类的技术从而进一步提高切削性能方面的研究。
例如,日本未审查专利公开No.2014-129562(专利文献1)公开了这样一种方法:将AlCl3气体、TiCl4气体、NH3气体、H2气体以及N2气体引入到压力为1.3kPa且温度为800℃的反应容器中,然后将反应容器以10℃/分钟的冷却速率冷却,直到基材的温度达到200℃。据说,利用该方法,可通过CVD形成具有这样的结构的硬质覆膜,其中具有面心立方晶格(fcc)结构的2nm厚的TiN与具有fcc结构的6nm厚的AlN交替层叠。
此外,日本未审查专利公开No.2015-193071(专利文献2)公开了包括由(Ti1-xAlxN)(CyN1-y)表示的复合氮化物层或复合碳氮化物层的硬质覆层,其中该层包含具有立方结构的晶粒,并且Ti和Al的组成沿着工具基材表面的法线方向周期性地改变。
引用列表
专利文献
专利文献1:日本未审查专利公开No.2014-129562
专利文献2:日本未审查专利公开No.2015-193071
非专利文献
非专利文献1:T.Ikeda等人,Phase formation and characterization of hardcoatings in the Ti-Al-N system prepared by the cathodic arc ion platingmethod,Thin Solid Films 195(1991)99-110
非专利文献2:M.Setoyama等人,Formation of cubic-AlN in TiN/AlNsuperlattice,Surface&Coatings Technology 86-87(1996)225-230
发明内容
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