[发明专利]热处理装置在审
| 申请号： | 201680003720.0 | 申请日： | 2016-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN107002159A | 公开（公告）日： | 2017-08-01 |
| 发明（设计）人： | 胜俣和彦 | 申请（专利权）人： | 株式会社IHI;IHI机械系统股份有限公司 |
| 主分类号： | C21D1/773 | 分类号： | C21D1/773;F27D7/06 |
| 代理公司： | 上海立群专利代理事务所(普通合伙)31291 | 代理人： | 毛立群,杨楷 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 热处理 装置 | ||
1.一种热处理装置，具备：
加热室，对被处理物进行加热处理；
水分除去室，与加热室邻接地设置，使所述被处理物在所述水分除去室与所述加热室之间进出，并且使所述被处理物的周围为真空气氛。
2.如权利要求1所述的热处理装置，其特征在于，所述水分除去室还具备加热所述被处理物的加热部或者使所述被处理物的周围为惰性气体气氛的惰性气体供给部中的任一方、或者同时具备所述加热部以及所述惰性气体供给部。
3.如权利要求2所述的热处理装置，其特征在于，在所述水分除去室具备所述加热部或者所述惰性气体供给部中的任一方的情况下，在使所述被处理物的周围为真空气氛之后，使用所述惰性气体供给部而使所述被处理物的周围为惰性气体气氛或者使用所述加热部加热所述被处理物。
4.如权利要求2所述的热处理装置，其特征在于，在所述水分除去室同时具备所述加热部以及所述惰性气体供给部的情况下，在使所述被处理物的周围为真空气氛之后，使用所述惰性气体供给部而使所述被处理物的周围为惰性气体气氛，进而使用所述加热部加热所述被处理物。
5.如权利要求2所述的热处理装置，其特征在于，
具备温度管理部，将所述水分除去室内设定为所述被处理物的氧化温度以下，
具备大气供给部，取代所述惰性气体供给部，使所述被处理物的周围为大气气氛。
6.如权利要求3所述的热处理装置，其特征在于，
具备温度管理部，将所述水分除去室内设定为所述被处理物的氧化温度以下，
具备大气供给部，取代所述惰性气体供给部，使所述被处理物的周围为大气气氛。
7.如权利要求4所述的热处理装置，其特征在于，
具备温度管理部，将所述水分除去室内设定为所述被处理物的氧化温度以下，
具备大气供给部，取代所述惰性气体供给部，使所述被处理物的周围为大气气氛。
8.如权利要求1～7中的任一项所述的热处理装置，其特征在于，所述加热室还具备对所述被处理物进行冷却处理的冷却功能。
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