[发明专利]用于胶版印刷的铅版的制造方法以及用于胶版印刷的铅版

权利要求书

1.一种用于胶版印刷的铅版的制造方法，包括以下步骤：

在基板上形成遮光掩模图案；

在设置有所述遮光掩模图案的所述基板上形成负性光致抗蚀剂层；

通过向基板侧照射光来使所述负性光致抗蚀剂层曝光；

通过使曝光后的所述负性光致抗蚀剂层显影来形成具有突出凸雕部分和显影凹槽图案的负性光致抗蚀剂图案层；以及

在显影的步骤之后，在形成有所述负性光致抗蚀剂图案层的所述基板上沉积金属氧化物，

其中，所述遮光掩模图案包括具有不同线宽的两个以上遮光掩模图案，

其中，所述负性光致抗蚀剂层的平均厚度为3μm以上，

所述负性光致抗蚀剂图案层具有至少两个线宽不同的凹槽图案，至少两个凹槽图案之间的线宽差为10μm以上，并且

线宽差为10μm以上的至少两个凹槽图案彼此连接。

2.一种用于胶版印刷的铅版，包括：

基板；

设置在所述基板上并具有凸雕部分和凹槽图案的负性光致抗蚀剂图案层；

设置在所述凹槽图案的底部上的遮光掩模图案；以及

设置在设置有所述光致抗蚀剂图案层的所述基板上的金属氧化物膜，

其中，负性光致抗蚀剂的所述凹槽图案的平均深度为3μm以上，

所述负性光致抗蚀剂图案层包括至少两个线宽不同的凹槽图案，所述负性光致抗蚀剂图案层的所述凹槽图案的平均深度相同，

至少两个凹槽图案之间的线宽差为10μm以上，并且线宽差为10μm以上的至少两个凹槽图案彼此连接。

3.根据权利要求2所述的用于胶版印刷的铅版，其中，所述金属氧化物膜的平均厚度为200nm以下。